美國2Dsemiconductors薄膜
- 發布時間：2020/3/30 11:54:32
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- 公 司：北京杰創宏達電子有限公司
- 聯 系 人：伊小姐
美國2Dsemiconductors薄膜屬性
- 價格面議
- 儀器
- 2Dsemiconductors
- 價格面議
- 美國2Dsemiconductors
美國2Dsemiconductors薄膜描述
美國2Dsemiconductors石墨烯薄膜產品描述
多種VDW層沉積在藍寶石、SiO2/Si和其他定制基板上。示例材料系統包括氣體、氣體、門、SNS、SNSE和其他。典型的基板尺寸為1平方厘米，2維層的有效面積為0.5平方毫米。在2016-2018年期間，這些層狀材料通過我們工廠建立的原子層沉積生長程序進行沉積。所有產品的純度均為6N（99.9999%），無缺陷，電子和光學級質量。單晶尺寸比傳統的CVD、MOCVD或PLD技術大得多。
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