三星:第三代 10 納米
發布時間:2016/11/7 9:55:10 訪問次數:1899
據最新發布,三星 3 日在硅谷總部舉辦的“三星晶圓代工論壇”(samsung foundry forum)上對客戶、伙伴展示了第四代 14 納米制程技術(14lpu)以及第三代 10 納米制程科技(10lpu),進一步說明兩種技術的細節。
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三星指出,14lpu 在同樣的電量、設計規格下運算效能高于第三代的 14 納米制程(14lpc),最適合應用于高效能、運算密集的設備。
另一方面,10lpu 使用的面積則比前兩代(10lpe、10lpp)都少,由于微影技術目前的限制,10lpu 將是當前業界中,最具成本效益的尖端制程。
除此之外,三星也在會場上公布 7 納米極紫外光(euv)制程的最新研發進度,并展示了 7 納米 euv 矽晶圓。
三星指稱,14lpu、10lpu 制程的制程設計套件(process design kits,簡稱 pdk)都會在明(2017)年第二季問世。
三星電子(samsung electronics co.)跟臺積電的先進制程競賽得如火如荼,三星在 10 月中搶下業界頭香,10 納米制程技術率先量產,3 日更公布了第三代 10 納米制程技術的最新細節。據最新發布,三星 3 日在硅谷總部舉辦的“三星晶圓代工論壇”(samsung foundry forum)上對客戶、伙伴展示了第四代 14 納米制程技術(14lpu)以及第三代 10 納米制程科技(10lpu),進一步說明兩種技術的細節。
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三星指出,14lpu 在同樣的電量、設計規格下運算效能高于第三代的 14 納米制程(14lpc),最適合應用于高效能、運算密集的設備。
另一方面,10lpu 使用的面積則比前兩代(10lpe、10lpp)都少,由于微影技術目前的限制,10lpu 將是當前業界中,最具成本效益的尖端制程。
除此之外,三星也在會場上公布 7 納米極紫外光(euv)制程的最新研發進度,并展示了 7 納米 euv 矽晶圓。
三星指稱,14lpu、10lpu 制程的制程設計套件(process design kits,簡稱 pdk)都會在明(2017)年第二季問世。
三星電子(samsung electronics co.)跟臺積電的先進制程競賽得如火如荼,三星在 10 月中搶下業界頭香,10 納米制程技術率先量產,3 日更公布了第三代 10 納米制程技術的最新細節。上一篇:英特爾:E5 v4系列