DIODES代理AL8821SP-13 AL8805 AL8806 AL8807 AL8808 PAM8908 PAM2861 深圳市哲瀚電子科技有限公司0755-83259945陳小姐。
The AL8821 is a boost converter that delivers an accurate constant
current for MR16 and similar LED Lamps. With proprietary control
scheme, the LED driver is compatible with many commonly used
electronic transformers and provides designs with High Power Factor
(PF) and low Total Harmonic Distortion (THD) for these applications.
The operation frequency is up to 1MHz that allows the use of small
size inductor. With the package of SO-8EP, the AL8821 has small
thermal resistance and can be used for wide range of output power.
The driver can be used for dimmable MR16 application and can be
compatible with leading-edge dimmer and trailing-edge dimmer.
特點：
Wide Input Voltage Range: 5V to 36V
Internal 50V NDMOS Switches
Continuous Conduction Mode (CCM) Operation
Up to 1MHz Switching Frequency
High PF > 0.9 and Low THD < 30% and Low Ripple < 20%
Compatible With Leading-edge Dimmer And Trailing-edgeDimmer
Internal Protections
Under Voltage Lock Out (UVLO)
Output Open
Over Temperature Protection (OTP)
Pb-free SO-8EP
Totally Lead-Free & Fully RoHS Compliant (Notes 1 & 2)
Halogen and Antimony Free. “Green” Device (Note 3)
應用：
Non-dimmable MR16 Lamps
Dimmable MR16 Lamps
General Illumination Lamps
近來有網絡媒體稱，“中微半導體自主研制的5納米等離子體刻蝕機，性能優良，將用于全球首條5納米芯片制程生產線”，并評論說“中國芯片生產技術終于突破歐美封鎖，第一次占領世界制高點”“中國彎道超車”等等。中微公司的刻蝕機的確水平一流，但夸大闡述其戰略意義，則被相關專家反對。刻蝕只是芯片制造多個環節之一。刻蝕機也不是對華禁售的設備，在這個意義上不算“卡脖子”。
首先，外行容易混淆“光刻機”和“刻蝕機”。光刻機相當于畫匠，刻蝕機是雕工。前者投影在硅片上一張精細的電路圖(就像照相機讓膠卷感光)，后者按這張圖去刻線(就像刻印章一樣，腐蝕和去除不需要的部分)。
光刻機是芯片制造中用到的最金貴的機器，要達到5納米曝光精度難比登天，ASML公司一家通吃高端光刻機;而刻蝕機沒那么難，中微的競爭對手還有應用材料、泛林、東京電子等等，國外巨頭體量優勢明顯。
“中微的等離子刻蝕機這幾年進步確實不小，”科技日報記者采訪的一位從事離子刻蝕的專家說，“但現在的刻蝕機精度已遠超光刻機的曝光精度;芯片制程上，刻蝕精度已不再是最大的難題，更難的是保證在大面積晶圓上的刻蝕一致性。”
該專家解釋說，難在如何讓電場能量和刻蝕氣體都均勻地分布在被刻蝕基體表面上，以保證等離子中的有效基元，在晶片表面的每一個位置實現相同的刻蝕效果，為此需要綜合材料學、流體力學、電磁學和真空等離子體學的知識。
該專家說：“刻蝕機更合理的結構設計和材料選擇，可保證電場的均勻分布。刻蝕氣體的饋入方式也是關鍵之一。據我所知，中微尹志堯博士的團隊在氣體噴淋盤上下過不少的功夫。另外包括功率電源、真空系統、刻蝕溫度控制等，都影響刻蝕結果。”
另外，該專家也指出，刻蝕機技術類型很多，中微和他們的技術原理就有很大區別，至于更詳細的技術細節，是每個廠家的核心機密。
順便一提：刻蝕分濕法(古代人就懂得用強酸去刻蝕金屬，現代工藝用氟化氫刻蝕二氧化硅)和干法(如用真空中的氬等離子體去加工硅片)。“濕法出現較早，一般用在低端產品上。干法一般是能量束刻蝕，離子束、電子束、激光束等等，精度高，無污染殘留，芯片制造用的就是等離子刻蝕。”該專家稱。
上述專家稱贊說，尹博士以及中微的核心技術團隊，基本都是從國際知名半導體設備大廠出來的，尹博士原來就在國外獲得了諸多的技術成就。中微不斷提高改進，逐步在芯片刻蝕機領域保持了與國外幾乎同步的技術水平。
在IC業界工作多年的電子工程師張光華告訴科技日報記者：“一兩年前網上就有中微研制5納米刻蝕機的報道。如果能在臺積電應用，的確說明中微達到世界領先水平。但說中國芯片‘彎道超車’就是夸大其詞了。”
“硅片從設計到制造到封測，流程復雜。刻蝕是制造環節的工序之一，還有造晶棒、切割晶圓、涂膜、光刻、摻雜、測試等等，都需要復雜的技術。中國在大部分工序上落后。”張光華說，“而且，中微只是給臺積電這樣的制造企業提供設備，產值比臺積電差幾個數量級。”
科技日報記者發現，2017年開始網絡上經常熱炒“5納米刻蝕機”，而中微公司一再抗議媒體給他們“戴高帽”。
“不要老把產業的發展提高到政治高度，更不要讓一些新聞人和媒體搞吸引眼球的不實報導。”尹志堯2018年表示，“對我和中微的夸大宣傳搞得我們很被動……過一些時候，又改頭換面登出來，實在讓我們頭痛。”
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