OC5020B 是一款內置 100V 功率MOS 高效率、高精度的開關降壓型大功率LED 恒流驅動芯片。
OC5020B 采用固定關斷時間的峰值電流控制方式，關斷時間可通過外部電容進行調節，工作頻率可根據用戶要求而改變。
OC5020B 通過調節外置的電流采樣電阻，能控制高亮度 LED 燈的驅動電流，使 LED 燈亮度達到預期恒定亮度。
在 DIM 端加 PWM 信號，可以進行LED 燈調光。
DIM 端同時支持線性調光。OC5020B 內部還集成了 VDD 穩壓管以及過溫保護電路等，減少外圍元件并提高系統可靠性。
OC5020B 采用 ESOP8 封裝。散熱片內置接 SW 腳。

特點：
內置 100V MOS
◆寬輸入電壓范圍：3.1V~100V
◆高效率：可高達 93%
◆支持 PWM 調光和線性調光
◆最大工作頻率：1MHz
◆CS 電壓：250mV
◆芯片供電欠壓保護：2.6V
◆關斷時間可調
◆智能過溫保護
◆內置 VDD 穩壓管
應用領域：
◆自行車、電動車、摩托車燈
◆強光手電
◆LED 射燈
◆大功率 LED 照明
◆LED 背光

升壓恒流:

OC6701 3.2～100V 大于輸入電壓2V以上即可3A以內

OC6700 3.2～60V 大于輸入電壓2V以上即可 2A以內

OC6702 3.2～100V 大于輸入電壓2V以上即可 1A以內

降壓恒流:

OC5021 3.2～100V最少低于輸出電壓1V以上就可以正常工作5A以內
OC5020 3.2～100V最少低于輸出電壓1V以上就可以正常工作 2A以內
OC5022 3.2～60V 最少低于輸出電壓1V以上就可以正常工作 3A以內
OC5028 3.2～100V 最少低于輸出電壓1V以上就可以正常工作1.5A以內
OC5011 5～40V 最少低于輸出電壓1V以上就可以正常工作5A以內
OC5010 5～40V 最少低于輸出電壓1V以上就可以正常工作2A以內

LED DRIVER DC-DC升降壓恒流

OC4001 5～100V 3.2～100V 3A

LED DRIVER DC-DC線性降壓恒流

OC7135 2.5-7V 低于等于輸入電壓即可固定<400mA

OC7131 2.5-7V 低于等于輸入電壓即可 可外擴，實際電流決定于MOS管功耗
OC7130 2.5-30V 低于等于輸入電壓即可 實際電流決定于IC整體耗散功率

LED DRIVER DC-DC降壓恒流專用IC系列：LED遠近光燈專用芯片

OC5200 3.2～100V最少低于輸出電壓1V以上就可以正常工作 2A以內
OC5208 3.2～100V最少低于輸出電壓1V以上就可以正常工作 1.5A以內

LED DRIVER DC-DC降壓恒流專用IC系列：多功能LED手電筒專用芯片

OC5351 3.2～100V最少低于輸出電壓1V以上就可以正常工作5A以內
OC5331 3.2～100V最少低于輸出電壓1V以上就可以正常工作 5A以內

DC-DC降壓恒壓

OC5801 8～100V最少低于輸出電壓5V以上就可以正常工作 3A以內

OC5800 8～100V最少低于輸出電壓5V以上就可以正常工作2A以內

全球光刻機龍頭廠商ASML公布2019年第一季度財報，總銷售額達到22億歐元，凈收入為3.55億歐元，毛利率達41.6%。預計第二季度凈銷售額將在25億歐元至26億歐元之間，毛利率在41%至42%之間。

財報顯示，今年第一季度ASML共計售出43臺新型光刻設備，相比于去年第四季度的58臺有所下降。

ASML總裁兼首席執行官Peter Wennink表示，得益于EUV系統的出貨量和DUV盈利能力高于預期，第一季度的銷售額和毛利率略皆高于預期。在重大技術轉型(主要是Logic方面)的背景下，仍看好今年的發展前景。另外，EUV系統正被用于最先進的邏輯節點生產，支持這些技術轉換的是更具高生產率的NXE:3400C EUV光刻機。預計未來該設備還會應用到DRAM內存生產中。

Wennink再次重申，對于2020年及以后長期發展，ASML積極看待5G通信、汽車、人工智能和數據中心等新技術的驅動。而短期內，由于宏觀經濟的發展，需求量仍然存在一些不確定性。

在DUV光刻業務中，對200 mm TWINSCAN光刻機的需求正在不斷增加，這主要得益于汽車，工業和物聯網細分市場的強勁增長。XT：1460K最近則收到了來自領先存儲制造商的訂單。

在300 mm上，ASML仍在DUV中進行創新，以支持未來的節點和新應用。有望在明年年中推出NXT：1470。ASML具有成本效益的DUV產品組合，最近在多個地區取得了重要的市場份額。

ASML的應用產品組合也在繼續保持增長，包括光學和電子束的計量和檢測，計算光刻和軟件控制產品。在2019年第一季度，ASML的Brion深度學習技術已被多家領先客戶采用。

ASML還在開發電子束產品，以提高未來節點所需的缺陷檢測靈敏度。為了提高電子束系統的生產率，ASML有望在今年為研發提供多光束系統，并在2020年轉向商業產品出貨。

對于EUV光刻系統，ASML的第一套NXE：3400C光學器件出產。這些更高傳輸效率的光學系統將讓新一代的EUV系統的芯片吞吐量達到每小時170片。預計這將為邏輯(Logic)和DRAM客戶帶來成本效益的提升。該系統預計將在2019年下半年開始出貨。

今年1月，ASML宣布收購總部位于Delft的高科技公司Mapper的知識產權資產。第1季度，大約100名前Mapper員工接受了ASML的工作邀請，目前正在為應用業務項目工作。

對于第二季度的展望，ASML預計凈銷售額將在25億歐元至26億歐元之間，毛利率在41%至42%之間。投入的研發成本約為4.85億歐元，而SG&A(銷售成本、綜合開銷及行政管理費用)成本約為1.25億歐元。預計2019年的年化有效稅率約為11%。

關于有媒體報道的XTAL公司竊密一事，ASML也在財報中回應表示，一些新聞報道與事實不符，并具有高度“投機性”。 ASML強調，XTAL是一家硅谷公司，資金來自韓國和中國的實體。XTAL的目的是創建一個競爭產品，并將其出售給ASML現有的韓國客戶，該客戶還對XTAL進行了投資。