美國2Dsemiconductors石墨烯薄膜產品描述
多種VDW層沉積在藍寶石、SiO2/Si和其他定制基板上。示例材料系統包括氣體、氣體、門、SNS、SNSE和其他。典型的基板尺寸為1平方厘米,2維層的有效面積為0.5平方毫米。在2016-2018年期間,這些層狀材料通過我們工廠建立的原子層沉積生長程序進行沉積。所有產品的純度均為6N(99.9999%),無缺陷,電子和光學級質量。單晶尺寸比傳統的CVD、MOCVD或PLD技術大得多。
發布時間:2019/6/19 9:17:00 訪問次數:196 發布企業:北京杰創宏達電子有限公司
美國2Dsemiconductors石墨烯薄膜產品描述
多種VDW層沉積在藍寶石、SiO2/Si和其他定制基板上。示例材料系統包括氣體、氣體、門、SNS、SNSE和其他。典型的基板尺寸為1平方厘米,2維層的有效面積為0.5平方毫米。在2016-2018年期間,這些層狀材料通過我們工廠建立的原子層沉積生長程序進行沉積。所有產品的純度均為6N(99.9999%),無缺陷,電子和光學級質量。單晶尺寸比傳統的CVD、MOCVD或PLD技術大得多。
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