2月19日晚間，上海新陽發布公告稱，公司擬與上海化學工業區管委會、上海化學工業區發展有限公司簽訂《投資意向協議》，變更全資子公司上海芯刻微材料技術有限責任公司注冊于上海化學工業區，并啟動位于上海化學工業區的項目建設。
華雄集團董事長朱峻咸分析，項目主要開發集成電路關鍵工藝材料，總投資額約5.8億元，占地約104畝。預計年產500噸I線、KrF、ArF干/濕法光刻膠；年產10000噸光刻膠稀釋劑；年產5000噸高選擇比氮化鈦刻蝕液系列產品；年產15000噸干法蝕刻清洗液系列產品。
項目擬于2023年取得施工許可證，2025年底前竣工，2026年6月底前投產。
據華雄集團資料顯示，光刻膠是一種對光敏感的混合液體，其主要作用是通過光化學反應，基于曝光、顯影等光工序將所需要刻蝕的細微圖形從光罩(掩模版)轉移到待加工硅基片上。除了提高加工精度，光刻膠還可以保護硅基材免受腐蝕，阻止離子影響。
光刻膠材料是集成電路制造領域的重要關鍵材料，廣泛應用于350nm-14nm甚至7nm技術節點的集成電路制造工藝。
上海新陽曾于2022年8月左右表示，公司在ArF光刻膠方面，ArF、ArF-i光刻膠研發進展順利，已經形成兩個系列試驗產品，樣品已經進入客戶端進行測試，此外ArF浸沒式光刻膠產品已有樣品在測試階段。
據悉，上海新陽主攻KrF和干法ArF光刻膠，已經進入產能建設階段。其在2020年11月3日定增預案，公司擬定增募資不超過14.50億元，其中8.15億元擬投資于集成電路制造用高端光刻膠研發、產業化項目，主要目標為實現ArF干法工藝使用的光刻膠和面向3DNAND臺階刻蝕的KrF厚膜光刻膠的產業化，力爭于2023年前實現上述產品的產業化，填補國內空白。2021年6月，上海新陽宣布，該公司自主研發的KrF（248nm）厚膜光刻膠產品通過了客戶認證，并成功取得訂單，其中通過認證的KrF光刻膠產品客戶數量不斷增加，已進入國內主流芯片制造公司。目前除ArF光刻膠外，上海新陽EUV光刻膠基本的研發工作正在進行中；KrF光刻膠已有訂單客戶超3家。
在ArF光刻膠的產業化進程上，除了上海新陽，南大光電、徐州博康也取得較大進展。南大光電ArF光刻膠有小批量訂單，尚未規模量產，目前已建成25噸產能的ArF光刻膠生產線。公司在2022年年末表示，ArF光刻膠項目正在順利推進，有多款ArF光刻產品在國內大型芯片制造企業正進行測試；徐州博康則在2022年11月22日舉辦的勢銀光刻膠產業大會上表示，ArF光刻膠已經有兩支產品通過了客戶的小批量采購，有4支產品在國際廠進行驗證評估，預計2022年12月和2023年一季度就會產生一定量的采購訂單。