敞口噴淋頭配高速旋轉盤式反應室:該產品為中晟公司技術,綜合利用了噴淋頭進氣和高速旋轉轉盤技術的優點,反應腔結構如圖⒈11所示。A914BYW-1R2M噴淋頭設計配高速旋轉轉盤,兩者間的距離超過50mm,既提供了均勻的氣體分配,又利用了高速旋轉的吸泵效應,實現了優良的成膜均勻性,保證了反應源的高效利用和薄膜高質量外延生長。進氣系統采用噴淋頭,實現了氣體有效均勻混合;其噴孔較大,且敞口外擴,有效避免了噴淋頭表面沉積物的形成,減少了開腔維護的頻次,提升了設備的利用率。該技術中托盤與旋轉系統的結合設計巧妙可靠,使得托盤可以特別薄,在不增加轉動慣量的情況下可以面積更大,從而明顯提升單爐產能。反應室的加熱系統為4區加熱,靈活便捷地實現了良好的溫場均勻性。

   反應室配置有高速采樣光學溫度計和寬頻譜濾波穩定功能,并配有熱電偶,提高了測溫的準確性和重復性,同時避免了其他設備技術中光學溫度測量系統必須采用的復雜昂貴的輻射修正系統。中晟的原位監測系統,高度集成了溫度和反射測量功能,且獨創性地實現了動態絕對定位追蹤與分析功能。