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提高集成密度和提高的電路速度一直是人們所追求的目標和面臨的挑戰

發布時間:2017/4/29 12:43:30 訪問次數:519

    增強可靠性,提高集成ADC08D1010DIYB+密度和提高的電路速度一直是人們所追求的目標和面臨的挑戰.混合型電路更是看重可靠性。速度和集成度的提高來源于免去了對單個芯片的封裝工序。整個連接鏈條中環節的減少降低了電阻(在某些情況下),縮短了信息必須運行的路徑,提高了速度.這種策略稱為裸芯片策略( bare die strategy),用于混合型、多芯片的模塊以及板卜芯片技術,裸芯片最直接的應用是將它們直接壓焊在印制電路板上。壓焊技術包括將芯片壓焊到管殼上:使用的所有技術。連接到板上以后,用頂部滴膠保護法( blob-top protection)保護芯片。用環氧樹脂材料覆蓋芯片和壓點的方法實現這種保護3D封裝(3D package):在一個封裝體內堆疊和連接麗個以七芯片。

   川-V族半導體材料(…-V semiconductor material):由元素周期表的第III和第V族元素組成的半導體材料,II-VI族半導體材料(II-VI semiconductor material):由元素周期表的第1I和第VI族元素組成的半導體材料。

   受主( acceptor):一種半導體材料中的雜質。接受價帶電子,從而在價帶中留下“空穴”的行為就像JE電性的載流子,亦稱P型載流子。

   空氣傳播的分子污染( airborne molecular contamination):在凈化間空氣中存在的空氣傳播的分f污染

   光刻機(對準和曝光)[ aligner( align and expose)]:-種工藝設備,用來將晶圓和掩模版或放大掩模版對準,并使光刻膠在紫外線或其他輻射源下曝光。

   對準( alignment):參見掩模版或放大掩模版相對于晶圓的定位。

   對準標記( alignment mark):在晶圓和掩模版七用來正確對準的目標。合金( alloy):(1)兩種金屬的合成物;(2)在半導體工藝中,合金化步驟引起半導體材料和在 其f:的材料的柏互擴散,形成兩者間的歐姆接觸。鋁(Al):半導體工藝中使用最多的金屬。用來形成芯片E的各器件之間的連接。可以通過蒸發或濺射I:藝制備.非晶體( amorphous):原子旱無序排列的材料,如塑料。




    增強可靠性,提高集成ADC08D1010DIYB+密度和提高的電路速度一直是人們所追求的目標和面臨的挑戰.混合型電路更是看重可靠性。速度和集成度的提高來源于免去了對單個芯片的封裝工序。整個連接鏈條中環節的減少降低了電阻(在某些情況下),縮短了信息必須運行的路徑,提高了速度.這種策略稱為裸芯片策略( bare die strategy),用于混合型、多芯片的模塊以及板卜芯片技術,裸芯片最直接的應用是將它們直接壓焊在印制電路板上。壓焊技術包括將芯片壓焊到管殼上:使用的所有技術。連接到板上以后,用頂部滴膠保護法( blob-top protection)保護芯片。用環氧樹脂材料覆蓋芯片和壓點的方法實現這種保護3D封裝(3D package):在一個封裝體內堆疊和連接麗個以七芯片。

   川-V族半導體材料(…-V semiconductor material):由元素周期表的第III和第V族元素組成的半導體材料,II-VI族半導體材料(II-VI semiconductor material):由元素周期表的第1I和第VI族元素組成的半導體材料。

   受主( acceptor):一種半導體材料中的雜質。接受價帶電子,從而在價帶中留下“空穴”的行為就像JE電性的載流子,亦稱P型載流子。

   空氣傳播的分子污染( airborne molecular contamination):在凈化間空氣中存在的空氣傳播的分f污染

   光刻機(對準和曝光)[ aligner( align and expose)]:-種工藝設備,用來將晶圓和掩模版或放大掩模版對準,并使光刻膠在紫外線或其他輻射源下曝光。

   對準( alignment):參見掩模版或放大掩模版相對于晶圓的定位。

   對準標記( alignment mark):在晶圓和掩模版七用來正確對準的目標。合金( alloy):(1)兩種金屬的合成物;(2)在半導體工藝中,合金化步驟引起半導體材料和在 其f:的材料的柏互擴散,形成兩者間的歐姆接觸。鋁(Al):半導體工藝中使用最多的金屬。用來形成芯片E的各器件之間的連接。可以通過蒸發或濺射I:藝制備.非晶體( amorphous):原子旱無序排列的材料,如塑料。




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