到達角是指反應劑能夠從各方向到達表面的某一點,這全部方向角就是該點的到達角。 ON9658給出了幾個關鍵點的二維空間的到達角,A點是180°,B點是270°,C點是90°。至刂達角越大,能夠到達該點的反應劑分子(或原子團)數量就越多,該點淀積的薄膜就越厚。圖75(bl非保形覆蓋中的B點淀積的薄膜就比C點厚,這兩點二維空間的到達角之比為3:1。

   邊界層厚度主要受氣體壓力和氣流狀態(或流速)等因素影響。常壓淀積,在氣體為層流狀態時,同一襯底表面的孔洞或溝槽內部氣體邊界層比平坦部位要厚,深寬比越大的孔洞或溝槽內部的邊界層就越厚。而氣體分子常壓時的平均自由程很小(約為10δcm),分子之間的相互碰撞使得它們的速度矢量完全隨機化。所以,在孔洞或溝槽內部,特別是底部角落位置的表面反應劑氣體濃度較低,該點淀積的薄膜就薄,如圖⒎5(b)非保形覆蓋中的C點。

    低壓淀積,氣體仍為層流狀態,邊界層比常壓時要厚,而當反應器內真空度足夠高,反應劑原子或分子的平均自由程與孔洞或溝槽的深度相當時,反應劑可以直接穿越邊界層人射到孔洞或溝槽底,這時影響表面反應劑濃度的除了與同一襯底不同位置的到達角有關外,還與遮蔽效應有關。由于氣體分子自由程較長,分子之間碰撞概率降低,使得氣體分子的速度矢量不再隨機化,而遮蔽效應(s腕do- 誦ng)指的就是襯底表面上的圖形對反應劑氣體分子直線運動的阻擋作用。如圖75(b)非保形覆蓋中的D點,由于遮蔽效應能直接人射到D點的入射角為汐,遠小于平面部位(如A點的入射角是180°)。深寬比越大,孔洞或溝槽內部D點的人射角汐越小,遮蔽效應就越嚴重。