涂膠完成后,仍有一定量的溶劑殘存在膠膜內,若直接曝光,會影響圖形的尺寸及完好率。因此, HAT2071R-EL-E涂膠后,需經過一個高溫加熱的步驟,即前烘,也叫軟烘,它對后序的一些工藝參數有很大的影響。前烘就是在一定的溫度下,使光刻膠膜里面的溶劑緩慢地、充分地逸出來,使光刻膠膜干燥,其目的是增加光刻膠與襯底間的黏附性,增強膠膜的光吸收和抗腐蝕能力,以及緩和涂膠過程中膠膜內產 生的應力等。液態的光刻膠中,溶劑的成分占65%~85%。經過涂膠之后,雖然液態的光刻膠已經成為固態的薄膜,但仍含有10%~30%的溶劑,容易沾染上灰塵。通過在較高溫度下進行烘焙,可以使溶 劑從光刻膠內揮發出來(前烘后,光刻膠中溶劑的含量降至5%左右),從而降低灰塵的沾染。前烘同時可以減輕lxl高速旋轉形成的薄膜應力,從而提高光刻膠的附著性。如果不減小應力,就會使光刻膠分層的趨勢增加。在前烘過程中,由于溶劑的揮發,光刻膠的厚度也會減薄,一般減小的幅度為10%~~’0%。

   另外,光刻膠的顯影速度受光刻膠中溶劑含量的影響。對于曝光后的光刻膠,如果其中溶劑的含量比較高,顯影時光刻膠的溶解速度就比較快。如果光刻膠沒有經過前烘處理,那么曝光區和未曝光區的光刻膠由于溶劑的含量都比較高,在顯影液中都會溶解(lx別只是溶解速度不同)。對于正膠來說,就會導致非曝光區的光刻膠因溶解而變薄.從而使光刻膠的保護能力下降。但是,人們并不希望在前烘時除去所有的溶劑。在重氮醌/酚醛樹脂(I,lazoQollo¨/No vtDlⅡ,DQN)光刻膠中需要剩余一定的溶劑,以便使感光劑重氮醌(Dl形oQullac,∝,DQ)轉變為羧酸。