“軟刻蝕”是一種相對于微制造領域中占據主導地位的刻蝕而言的微圖形轉移和微制造的新方法。 ICM7555ID總的思路就是把用昂貴設各生成的微圖形通過中間介質進行簡便而又精確的復制,提高微制作的效率。以哈佛大學White盂des教授研究組為代表的多個研究集體發展了相關技術,包括微接觸印刷、毛細微模塑、溶劑輔助的微模塑、轉移微模塑、微模塑、近場光刻蝕等多項內容,并正式提出了“軟刻蝕”這樣的名稱。這些方法工藝簡單,對實驗室條件要求不高,叉能在曲面上進行操作,甚至可制備三維的立體圖形。

   軟刻蝕一般是通過表面復制有細微結構的彈性印模來轉移圖形的。其方法有用烷基硫醇“墨水”在金表面印刷,將印模作為模具直接進行模塑,或將印模作為光掩膜進行光刻蝕等,過程簡單、效率高。軟刻蝕不但可在平面L制造圖形,也可以轉移圖形到曲面表面,它還可以對圖形表面的化學性質加以控制,方便地產生具有特定功能團的圖形表面;軟刻蝕還能復制三維的圖形,精細程度達100nm以下,彌補了光刻蝕方法的不足。

   軟刻蝕技術的核心是圖形轉移元件――彈性印模。制作印模的最佳聚合物是聚二甲基硅氧烷(PDMS)。先用光刻蝕法在基片上刻出精細圖形,在其上澆鑄PDˇs,固化剝離得到表面復制微圖形。甚至在凸透鏡的表面模塑出了類似蜻蜓復眼式的眾多微凸透鏡,也源于PDMS優良的彈性。軟刻蝕過程簡單、方法靈活,在微制造方面有很好的應用前景。在圖形的精確定位、印刷質量方面,目前軟刻蝕還比不上光刻蝕,然而它有許多優點是光刻蝕技術所不具有的,例如,它能在曲面上刻蝕圖形,制作=維微結構,方便地控制微接觸印刷表面的化學物理性質,制作陶瓷、高分子、微顆粒等微制造材料的微圖形,尤其是它不需復雜的設備,可以在普通實驗室條件下進行制作。