對焦深度(Depth of Focus,DC)F),指的是在線寬允許的變化范圍內,焦距的最大可變化范圍。 TA7521M如圖7.13所示,光刻膠隨著焦距的變化不僅會發生線寬的變化,還會發生形貌的變化。一般來講,對透明度比較高的光刻膠,如193nm的光刻膠和分辨率較高的248nm光刻膠,當光刻機的焦平面處于負值時,焦平面靠近光刻膠頂部位置;當高寬比大于2.5~3時,由于光刻膠底部線寬較大,甚至于出現“內切”(undercut),容易發生機械不穩定而傾倒。

   當焦平面處于正值時,由于光刻膠溝槽頂部的線 線貿CDynm 寬較大,頂部的方角會變得圓滑(top rounding)。 12 這種“頂部圓滑”有可能會被轉移到刻蝕后的材 l 料形貌中去,所以“內切”和“圓滑”都需要避免。如果將圖7.13的線寬數據作圖,會得到一張在不同曝光能量下線寬隨焦距的變化曲線族,如圖7.17所示。