光刻膠形貌
發布時間:2017/10/26 21:29:10 訪問次數:1841
光刻膠形貌的異常情況包括側墻傾斜角,駐波,厚度損失,底部站腳,底部內切,T型頂,頂部變圓, SC103116MPVE線寬粗糙度,高寬比/圖形傾倒,底部殘留等。下面我們對它們逐一進行討論,如圖7.38所示。
側墻傾斜角(sidewall angle):一股是因為進人到光刻膠底部的光比在頂部的光弱(由于光刻膠對光的吸收)。解決方法一般通過減小光刻膠對光的吸收同時提高光刻膠對光的靈敏度。這可以通過增加光敏感成分的添加以及增加光酸在去保護反應中的催化作用(擴散-催化反應)。側墻角度會對刻蝕產生一定影響,嚴重時會將側墻角度轉移到被刻蝕的襯底材料中。
光刻膠形貌的異常情況包括側墻傾斜角,駐波,厚度損失,底部站腳,底部內切,T型頂,頂部變圓, SC103116MPVE線寬粗糙度,高寬比/圖形傾倒,底部殘留等。下面我們對它們逐一進行討論,如圖7.38所示。
側墻傾斜角(sidewall angle):一股是因為進人到光刻膠底部的光比在頂部的光弱(由于光刻膠對光的吸收)。解決方法一般通過減小光刻膠對光的吸收同時提高光刻膠對光的靈敏度。這可以通過增加光敏感成分的添加以及增加光酸在去保護反應中的催化作用(擴散-催化反應)。側墻角度會對刻蝕產生一定影響,嚴重時會將側墻角度轉移到被刻蝕的襯底材料中。
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