FIB系統主要由離子源、離子光學SCA100T-D01系統、二次粒子探測器、真空系統和輔助氣體系統組成。商用機型有單束(single beam)和雙束(dual beam,離子束+電子束)兩類。日前商用系統的離子源為液相金屬離子源(I'iquid MetaH冫0n Source,I'MIS),金屬材質為鎵(Gallium,Ga),因為鎵元素具有低熔點、低蒸氣壓及良好的抗氧化力。離子光學系統主要包括聚焦成像的靜電透鏡系統、束對中器、消像散器、質量分析器和束偏轉器等。輔助氣體系統指在FIB中通人不同種類的輔助氣體,可以實現以下兩種主要的用途:①輔助氣體刻蝕:通人某些反應氣體,如C12、I2、Br2等,就能改變靶材表面的束縛能,或者直接與靶材表面起化學反應,從而大大提高離子束的濺射產額。②誘導沉積:根據要求沉積的材料不同,選擇不同的誘導氣體,如W(CO)6、WF6、Al(CH3)3等。誘導氣體以單分子層的形式吸附在固體材料表面9人射離子束的轟擊致使吸附氣體分子分解,將金屬材料留在固體表面。商用FIB系統常用的氣體輔助氣體沉積導體如鎢或白金,在IC失效分析中主要用于金屬線連接、測試鍵生長。