過去的技術節點指的是最小加工尺寸或柵極長度，現在只是“標簽”，并不指某一位置的物理長度。

結構和材料，如BPR、CFET和使用二維材料的通道等，已經單獨發表。EUV的高NA對進一步小型化至關重要據臺積電和三星電子，從7nm工藝開始，部分工藝已經推出了NA=0.33的EUV光刻設備，5nm工藝也實現了頻率的提高，但對于2nm以后的超精細工藝，需要實現更高的分辨率和更高的光刻設備NA（NA=0.55）。

符合邏輯器件工藝小型化的EUV光刻系統技術路線圖

ASML已經完成了作為NXE:5000系列的高NA EUV曝光系統的基本設計，但商業化計劃在下一代系統將因其巨大的光學系統而變得非常高大，很有可能頂在傳統潔凈室的天花板下。

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數據列表

TPS60151;

標準包裝

3,000

包裝

標準卷帶

零件狀態

有源

類別

集成電路（IC）

產品族

PMIC - 穩壓器 - DC DC 開關穩壓器

系列 -

其它名稱

296-25279-2

規格

功能 升壓

輸出配置 正

拓撲 充電泵

輸出類型 固定

輸出數 1

電壓 - 輸入（最小值） 2.7V

電壓 - 輸入（最大值） 5.5V

電壓 - 輸出（最小值/固定） 5V

電壓 - 輸出（最大值） -

電流 - 輸出 140mA

頻率 - 開關 1.5MHz

同步整流器 無

工作溫度 -40°C ~ 85°C（TA）

安裝類型 表面貼裝型

封裝/外殼 6-WDFN 裸露焊盤

供應商器件封裝 6-WSON（2x2）

與Classic Audio相比，功耗可以大大降低，并且帶來更豐富的音頻體驗。新的LC3 CODEC帶來了更高的音頻質量，同時還可以通過“音頻共享(Audio Sharing)”功能將音頻流傳輸到無限數量的設備，使得人們在公共區域時可以從附近的電視或監視器中獲取音頻流。

CEVA的RivieraWaves藍牙IP平臺為低功耗藍牙和藍牙雙模連接提供了全面的解決方案。每個平臺均由一個硬件基帶控制器和一個功能豐富的軟件協議棧組成。這些平臺具有靈活的無線電接口，可以配合RivieraWaves RF或各種合作伙伴的RF IP，從而實現彈性的代工廠和工藝節點選擇。

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(素材來源：chinaaet和eccn和ttic.如涉版權請聯系刪除。特別感謝）