對于僅有幾個或十幾個測控回路且多以模擬量信號為主的小規模系統而言，K4B4G1646B-HCMA采用以智能儀表為底層、計算機為上層的兩級監控系統是一種性價比較高的控制模式。下面以4個聚合釜反應流程中的溫度壓力測控系統為例。

   1．系統概述

   實驗室中配置了4個白鋼聚合釜，進行相同的間歇式反應過程。每個聚合釜浸在一個電加熱的油浴里，釜的上部有一個高壓組閥，分別開啟反應物的進入與排出。

   1)工藝流程

   當反應物流入聚合釜中，開始發生化學反應并產生氣體，排出口引到氣相色譜儀進行在線檢測氣體的成分和含量。釜內的反應物介質為酸性腐蝕性氣體，且產生很高的壓力a

   2)測控要求

   工藝要求聚合釜內的溫度應能控制，常態在200℃±5℃，釜內壓力需要檢測顯示，最高可達lOMPa。要求計算機顯示屏上能實時顯示、記錄4個釜中的4點溫度與壓力的數據變化，而且顯示記錄參數的時間周期可以在秒、分、時之間任意調整。

   電加熱器的功率為1000W、220V( AC)。

   2．總體方案

   該例采用底層測控、上層監視的上、下兩層控制方案。因為整個系統只有4個溫度控制回路和4個壓力檢測參數，且溫度、壓力傳感器的輸出信號均是模擬量信號，所以底層測控裝置采用智能型數字儀表，同時通過RS - 485現場總線連接到上位機，以實現計算機的數據采集、信號處理、數據列表、操作顯示，以及人機對話等多個任務。