12nm 和 7nm FinFET Plus 工藝
發布時間:2017/9/24 13:41:31 訪問次數:1069
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適用于 tsmc 12nm 和 7nm finfet plus 的 mentor calibre nmplatform
mentor 針對 tsmc最新版本的 12nm 和 7nm finfet plus 工藝,增強了 calibre nmdrc™ 和 calibre nmlvs™ 工具的功能。mentor 與 tsmc 攜手合作,不僅確保適當的覆蓋率,還優化了設計套件的運行速度。此外,tsmc 和 mentor 還展開了合作,以便雙方的共同客戶能夠了解 calibre 設計規則檢查 (drc) 和多重曝光軟件方面的極紫外 (euv) 光刻要求。http://kingstar01.51dzw.com
calibre xact™ 寄生參數提取工具也通過了 tsmc 的 12nm v1.0 和最新版本 7nm finfet plus 的認證,達到了必需的精確度要求。
不僅 calibre yieldenhancer 工具獲得了 tsmc 的 12nm 和 7nm finfet plus 工藝的認證,mentor 和 tsmc 還聯手提供了增強使用模型,旨在優化填充運行時間,通過工程變更指令填充 (eco fill) 來最大程度地減少形狀移除,使用“隨時填充”方法確保所有層之間的一致性。
calibre perc™ 可靠性平臺是適用于 ip 和全芯片可靠性分析的驗證解決方案。對于當今復雜密集的芯片設計而言,點對點和電流密度可靠性檢查是至關重要的,但要在大型 12nm 和 7nm finfet plus 設計上完成這些檢測,必須具備可擴展性。tsmc 和 mentor 共同協作,實現了 calibre perc 解決方案,充分利用全新的多 cpu 運行功能,讓共同客戶能夠更快地發現和解決他們設計中的全芯片可靠性問題。
適用于 tsmc 12nm 和 7nm finfet plus 的 mentor afs 平臺
afs 平臺,包括 afs mega 電路仿真器,獲得了 tsmc 的 12nm 和 tsmc 7nm finfet plus 工藝的認證。afs 平臺支持面向移動和 hpc 應用的 tsmc 設計平臺的所有必需功能。全球領先的半導體公司的模擬、混合信號和射頻 (rf) 設計團隊均使用 afs 平臺對采用最新 tsmc 技術的芯片進行驗證,并從中大獲裨益。
適用于 tsmc 12nm 的 mentor nitro-soc
mentor 的 nitro-soctm 布局布線系統獲得了 tsmc 的 12nm 工藝的認證。除了支持 12nm 工藝規則之外,mentor 還增強了 nitro-soc 的內核引擎,以滿足這種高密度、高能效工藝的全新標準單元架構要求和設計規則。這使得 mentor 能夠為 12nm 節點提供數字實施流程。http://kingstar01.51dzw.com
mentor 副總裁兼 design to silicon 事業部總經理 joe sawicki 說道:“mentor 非常榮幸能夠成為 tsmc 生態系統的重要組成部分。今年,tsmc 和 mentor 聯手提供了眾多解決方案,繼續為共同客戶提供多種設計方法,以促進移動、高性能計算、汽車、物聯網、可穿戴設備市場的 ic 創新。”
siemens 業務部門 mentor 是電子硬件和軟件設計解決方案的世界領導者,為世界上大多數成功的電子、半導體和系統公司提供產品、咨詢服務和屢獲殊榮的技術支持。公司總部位于 8005 s.w.boeckman road, wilsonville, oregon 97070-7777。網站:http://www.mentor.com。
(mentor graphics, mentor,calibre 和 xpedition 是注冊商標,afs, calibre xact, calibre perc, calibre rve 和 nitro-soc 是 mentor graphics 公司的注冊商標。所有其他公司或產品名稱是其各自所有者的注冊商標或商標。)
來源:電子產品世界
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適用于 tsmc 12nm 和 7nm finfet plus 的 mentor calibre nmplatform
mentor 針對 tsmc最新版本的 12nm 和 7nm finfet plus 工藝,增強了 calibre nmdrc™ 和 calibre nmlvs™ 工具的功能。mentor 與 tsmc 攜手合作,不僅確保適當的覆蓋率,還優化了設計套件的運行速度。此外,tsmc 和 mentor 還展開了合作,以便雙方的共同客戶能夠了解 calibre 設計規則檢查 (drc) 和多重曝光軟件方面的極紫外 (euv) 光刻要求。http://kingstar01.51dzw.com
calibre xact™ 寄生參數提取工具也通過了 tsmc 的 12nm v1.0 和最新版本 7nm finfet plus 的認證,達到了必需的精確度要求。
不僅 calibre yieldenhancer 工具獲得了 tsmc 的 12nm 和 7nm finfet plus 工藝的認證,mentor 和 tsmc 還聯手提供了增強使用模型,旨在優化填充運行時間,通過工程變更指令填充 (eco fill) 來最大程度地減少形狀移除,使用“隨時填充”方法確保所有層之間的一致性。
calibre perc™ 可靠性平臺是適用于 ip 和全芯片可靠性分析的驗證解決方案。對于當今復雜密集的芯片設計而言,點對點和電流密度可靠性檢查是至關重要的,但要在大型 12nm 和 7nm finfet plus 設計上完成這些檢測,必須具備可擴展性。tsmc 和 mentor 共同協作,實現了 calibre perc 解決方案,充分利用全新的多 cpu 運行功能,讓共同客戶能夠更快地發現和解決他們設計中的全芯片可靠性問題。
適用于 tsmc 12nm 和 7nm finfet plus 的 mentor afs 平臺
afs 平臺,包括 afs mega 電路仿真器,獲得了 tsmc 的 12nm 和 tsmc 7nm finfet plus 工藝的認證。afs 平臺支持面向移動和 hpc 應用的 tsmc 設計平臺的所有必需功能。全球領先的半導體公司的模擬、混合信號和射頻 (rf) 設計團隊均使用 afs 平臺對采用最新 tsmc 技術的芯片進行驗證,并從中大獲裨益。
適用于 tsmc 12nm 的 mentor nitro-soc
mentor 的 nitro-soctm 布局布線系統獲得了 tsmc 的 12nm 工藝的認證。除了支持 12nm 工藝規則之外,mentor 還增強了 nitro-soc 的內核引擎,以滿足這種高密度、高能效工藝的全新標準單元架構要求和設計規則。這使得 mentor 能夠為 12nm 節點提供數字實施流程。http://kingstar01.51dzw.com
mentor 副總裁兼 design to silicon 事業部總經理 joe sawicki 說道:“mentor 非常榮幸能夠成為 tsmc 生態系統的重要組成部分。今年,tsmc 和 mentor 聯手提供了眾多解決方案,繼續為共同客戶提供多種設計方法,以促進移動、高性能計算、汽車、物聯網、可穿戴設備市場的 ic 創新。”
siemens 業務部門 mentor 是電子硬件和軟件設計解決方案的世界領導者,為世界上大多數成功的電子、半導體和系統公司提供產品、咨詢服務和屢獲殊榮的技術支持。公司總部位于 8005 s.w.boeckman road, wilsonville, oregon 97070-7777。網站:http://www.mentor.com。
(mentor graphics, mentor,calibre 和 xpedition 是注冊商標,afs, calibre xact, calibre perc, calibre rve 和 nitro-soc 是 mentor graphics 公司的注冊商標。所有其他公司或產品名稱是其各自所有者的注冊商標或商標。)
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