極紫外線曝光設備
發布時間:2018/4/18 23:18:50 訪問次數:803
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研究機構linley group發布芯片產業報告指出,英特爾(intel)開發新制程落后,原有的芯片制造技術優勢也幾乎蕩然無存。http://kksdz.51dzw.com
首席分析師linley gwennap寫說,英特爾的10納米制程一再延誤,導致沖刺下一代制程進度現不僅落后給臺積電,三星與其伙伴globalfoundries也準備超車。
據悉,臺積電計劃于今年6月份開始量產7nm finfet芯片,屆時臺積電將實現7nm芯片100%的市場份額,而高通、海思和xillinx都是臺積電的大客戶,7nm這項工藝的收益將在第二季度開始體現。
三星已經完成了7nm制程技術的開發,并且在這一制程技術中使用了極紫外線曝光設備(euv)。最初,該公司預計7 納米制程技術的開發將在2018 年下半年完成,但是,未來追趕臺積電的腳步,現在已經提前半年完成。有消息指出,高通正準備向三星發送其新移動芯片樣品。
報告分析各大廠生產的芯片電路密度,以及其它工藝技術指標,結論是其它競爭者所采用的技術水平均已逼近英特爾,比如臺積電的7納米與英特爾10納米幾乎沒有差距。報告指出,三大競爭廠商在采購下一代微影技術(lithography)設備均比英特爾積極,不排除三者2021年都將超越英特爾。http://kksdz.51dzw.com
英特爾護城河被對手一一攻破,未來營收展望堪憂。日前有消息傳出,蘋果最快2020年于部分mac電腦以自家研發的處理器取代英特爾處理器,恐沖擊英特爾營收。
來源:集微網
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研究機構linley group發布芯片產業報告指出,英特爾(intel)開發新制程落后,原有的芯片制造技術優勢也幾乎蕩然無存。http://kksdz.51dzw.com
首席分析師linley gwennap寫說,英特爾的10納米制程一再延誤,導致沖刺下一代制程進度現不僅落后給臺積電,三星與其伙伴globalfoundries也準備超車。
據悉,臺積電計劃于今年6月份開始量產7nm finfet芯片,屆時臺積電將實現7nm芯片100%的市場份額,而高通、海思和xillinx都是臺積電的大客戶,7nm這項工藝的收益將在第二季度開始體現。
三星已經完成了7nm制程技術的開發,并且在這一制程技術中使用了極紫外線曝光設備(euv)。最初,該公司預計7 納米制程技術的開發將在2018 年下半年完成,但是,未來追趕臺積電的腳步,現在已經提前半年完成。有消息指出,高通正準備向三星發送其新移動芯片樣品。
報告分析各大廠生產的芯片電路密度,以及其它工藝技術指標,結論是其它競爭者所采用的技術水平均已逼近英特爾,比如臺積電的7納米與英特爾10納米幾乎沒有差距。報告指出,三大競爭廠商在采購下一代微影技術(lithography)設備均比英特爾積極,不排除三者2021年都將超越英特爾。http://kksdz.51dzw.com
英特爾護城河被對手一一攻破,未來營收展望堪憂。日前有消息傳出,蘋果最快2020年于部分mac電腦以自家研發的處理器取代英特爾處理器,恐沖擊英特爾營收。
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