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先進封裝技術及中道(Middle-End)技術

發布時間:2018/5/24 16:42:00 訪問次數:1418


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015701.5DR
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5035521220
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G1084-33T
P0080SCLRP
H1013

      半導體制造工藝流程及其需要的設備和材料,其次闡述了ic晶圓生產線的7個主要生產區域及所需設備和材料,最后詳細的介紹了半導體制造工藝,具體的跟隨小編一起來了解一下。http://hsj999.51dzw.com

      半導體產品的加工過程主要包括晶圓制造(前道,front-end)和封裝(后道,back-end)測試,隨著先進封裝技術的滲透,出現介于晶圓制造和封裝之間的加工環節,稱為中道(middle-end)。由于半導體產品的加工工序多,所以在制造過程中需要大量的半導體設備和材料。在這里,我們以最為復雜的晶圓制造(前道)和傳統封裝(后道)工藝為例,說明制造過程的所需要的設備和材料。

      晶圓生產線可以分成7個獨立的生產區域:擴散(thermal process)、光刻(photo- lithography)、刻蝕(etch)、離子注入(ion implant)、薄膜生長(dielectric deposition)、拋光(cmp)、金屬化(metalization)。這7個主要的生產區和相關步驟以及測量等都是晶圓潔凈廠房進行的。在這幾個生產區都放置有若干種半導體設備,滿足不同的需要。例如在光刻區,除了光刻機之外,還會有配套的涂膠/顯影和測量設備。http://hsj999.51dzw.com

             

來源:eefocus

 



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      半導體產品的加工過程主要包括晶圓制造(前道,front-end)和封裝(后道,back-end)測試,隨著先進封裝技術的滲透,出現介于晶圓制造和封裝之間的加工環節,稱為中道(middle-end)。由于半導體產品的加工工序多,所以在制造過程中需要大量的半導體設備和材料。在這里,我們以最為復雜的晶圓制造(前道)和傳統封裝(后道)工藝為例,說明制造過程的所需要的設備和材料。

      晶圓生產線可以分成7個獨立的生產區域:擴散(thermal process)、光刻(photo- lithography)、刻蝕(etch)、離子注入(ion implant)、薄膜生長(dielectric deposition)、拋光(cmp)、金屬化(metalization)。這7個主要的生產區和相關步驟以及測量等都是晶圓潔凈廠房進行的。在這幾個生產區都放置有若干種半導體設備,滿足不同的需要。例如在光刻區,除了光刻機之外,還會有配套的涂膠/顯影和測量設備。http://hsj999.51dzw.com

             

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