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三星在2018年10月份才宣布7nm EUV工藝量產，已經完成了整套7nm EUV工藝的技術流程開發以及產線部署，進入了可量產階段。三星表示7nm LPP工藝可以減少20％的光學掩模流程，整個制造過程更加簡單了，節省了時間和金錢，又可以實現40％面積能效提升、性能增加20％、功耗降低50％目標。
不過據媒體報道，三星那次宣布的7nm EUV量產名不副實，因為當時的生產線只有韓國華城S3 Line，那里部署了ASML的NXE3400 EUV光刻機，不過該產線之前是生產10nm工藝，這次屬于技術改造。
三星真正量產7nm EUV工藝還需要新的生產線，在韓國華城建設全新的生產線就是專為7nm EUV量產準備的，計劃在2019年底全面完工，7nm EUV大規模量產在2020年底前實現。
可見，三星7nm量產的時間比臺積電第二代7nm產線還要晚近一年的時間。
7nm領先三星，臺積電仍是大廠首選
晶圓代工龍頭廠臺積電大客戶、全球繪圖芯片龍頭廠英偉達（Nvidia）證實下一代7納米繪圖處理器（GPU）芯片將轉單南韓三星，引起業界矚目，并沖擊臺積電昨股價下跌2．6％；不過，業界人士皆認為，臺積電7納米制程領先三星，良率穩定，仍是全球大咖客戶首選。
5G、人工智慧（AI）與高效能運算（HPC）創新應用興起，帶動處理器走向高速運算、體積縮小、低功耗為發展主流，全球芯片大廠包括高通、英偉達、海思、超微等最新產品，都以最先進制程技術量產，引爆7納米制程需求大增，而在7納米制程臺積電仍居領先地位。
因各家大廠在7納米制程推進速度不一，今年全球晶圓代工業務版圖恐出現重整。英特爾已宣布放棄晶圓代工業務，專注本業，以維持處理器霸主地位；三星去年因7納米良率不順，采10納米制程加強版8納米LPP制程暫代7納米，今年下半年才開始以7納米制程量產產品。臺積電在7納米制程啟動時間點為全球最早，良率表現穩定，為各大設計公司導入的首選。
臺積電7納米制程目前呈現產能滿載盛況，估計7納米與極紫外光（EUV）微影設備的7納米加強版，將占今年全年營收比重超過25％，也將是帶動下半年營運比上半年成長的主要動能。
臺積電生產制造技高一籌，又不像三星與客戶競爭，高通之前10納米轉三星代工，7納米制程又回到臺積電投產，英偉達應該僅是一部分訂單給三星，主要投產還是以臺積電為主。
