目前全球前幾大晶圓代工廠商，英特爾10納米制程還沒搞定，距離7納米制程最遙遠。臺積電7納米制程量產比較順利，會有蘋果、海思、高通、nvidia、amd等客戶陸續流片、量產。臺積電第一代7納米制程，使用的還是傳統多重曝光技術，必須到2019年第2代7納米制程才會使用euv光刻技術。

51電子網公益庫存:

CC2592RGVR

CC2530F256RHAR

MSP430FW427IPMR

MSP430F5310IPTR

MSP430F5310IRGCR

ADS1230IPWR

STM32F103RET6

NRF24L01

NRF24LE1

IP4369CX4-H500

2N7002-7-F

DMN3404L-7

1N4148WS-7-F

BAV99W-7-F

AZ1117CH-1.8TRG1

AZ1117CH-5.0TRG1

US1M-13-F

1N5819HW-7-F

AZ431AN-ATRE1

DMG7430LFG-7

MMBT2222A-7-F

CC2592RGVR

格羅方德也走與臺積電相似路線，預計2018年量產7納米duv制程還是傳統的深紫外光刻技術。對此，號稱頻率可達5ghz的amd 7納米zen 2處理器會使用格羅方德的7納米制程技術，2019年初問世，2020年再下一代才是7納米euv制程技術。

相對其他競爭對手，三星在euv技術最積極。三星直接跳過第一代非euv光刻7納米制程，直接使用加入euv技術的7納米lpp制程，預定2018下半年正式量產。日前，新思科技與三星已聯合宣布，三星使用的7納米lpp制程技術完成ic驗證器的認證。http://yushuokj.51dzw.com/

三星完成這次認證之后，7納米lpp制程就可立即提供認證的技術資料，包括drc設計規則檢查、lvs布局與原理圖、金屬填充技術檔等予相關客戶，意味著三星的7納米lpp制程正式進入量產階段。

目前euv光刻技術競爭激烈，各家大廠搶euv光刻機也成為重要目標之一。根據之前消息，asml的euv光刻機，臺積電訂購了約10臺，三星訂購約6臺，英特爾訂購3臺，而格羅方德的euv訂單數量不詳，中國中芯國際也訂了1臺euv光刻機，將用于7納米制程技術研究，預計2019年初交貨。各家廠商都有euv光刻機的情況下，似乎未來7納米節點要勝出，就必須比較各家的技術與管理能力了。

在晶圓代工市場，臺積電與三星的競爭始終是大家關心的戲碼。三星雖然有高通等vip客戶，但在7納米制程節點，高通預計會轉投臺積電，三星要想受更多客戶的青睞，只能從制程技術著手了。這也是三星為什么跳過非euv技術的7納米制程，直接上7納米lpp euv制程技術的原因。如今，三星終于公布了7納米lpp制程已完成新思科技(synopsys)物理認證，意味著7納米euv制程將可全球量產了。http://yushuokj.51dzw.com/

文章來源：technews