彩色版是一種新型的透明或半透明掩膜,因有顏色,故俗稱彩色版,它可克服超微粒干版缺陷多、ACT45B-510-2P-TL003耐磨性差及鉻版針孔多、易反光、不易對準等缺點。

   彩色版的最主要特點是對曝光光源波長(紫外線40o~~900nm)不透明,而對于觀察光源波長(400~800nm)透明。也就是說這種掩膜對可見光波吸收很小,能透過,而對紫外線吸收較強,不能透過。因此使用這種掩膜制成的掩模板,在可見光下是透明的,故光刻圖形易于對準,而用紫外線曝光時這種掩膜叉是不透明的,因此它又能起掩膜的作用。在大面積集成電路的光刻中,由于集成度高,圖形線條細,要求光刻精度高,用金屬鉻版是較難對準的(因為鉻版反射光能力強),而用彩色版光刻大面積集成電路時,因其透明所以能對器件圖形的最關鍵部位進行直接觀察,使圖形對準較為容易。彩色版除了光刻圖形易于對準外,還具有針孔小(小于0.5cm2)、耐磨性較強(因為玻璃與氧化鐵等黏附能力強)的優點,在分辨率方面也不亞于金屬鉻版和超微粒干版。氧化鐵掩膜能做出1um左右的圖形。此外,由于彩色版的掩蔽作用是吸收不需要的光而不是反射,因此光學效應比鉻版減小了,從而提高了反差。

   彩色版種類很多,有氧化鐵版、硅版、氧化鉻版、氧化亞銅版等,目前應用較廣的是氧化鐵彩色版。雖然常常把氧化鐵版的材料稱為氧化鐵(Fe2o3),確切地講其組成是復雜的,結構是多樣的,是數種鐵的氧化物的混合物,通常用氧化鐵作為它們的代表。氧化鐵具備作為選擇透明掩膜材料的所有要求的最佳的化學和物理特性。據報道,其在紫外區(3oO~400nm)的透射率小于1%,在可見光區(400~800nm)的透射率大于30%。