射頻電源半導體和等離子薄膜工藝設備性能進一步提升
發布時間:2021/7/9 20:18:47 訪問次數:426
先進的高精度電源轉換、測量和控制系統等解決方案,這方面的技術更一直領先全球。
全新的 Paramount HP 10013 射頻電源。新產品推出之后,該公司旗艦產品 Paramount RF (射頻) 電源系列將會有更多型號可供選擇。
Advanced Energy 的等離子工藝設備電源系統適用于半導體蝕刻、介電質蝕刻、沉積、濺鍍、離子植入等半導體和等離子薄膜工藝設備.
Paramount HP 10013 沿用這種在市場一直居領導地位等離子工藝電源技術,但性能則有進一步的提升.
制造商: ON Semiconductor
產品種類: MOSFET
技術: Si
安裝風格: SMD/SMT
封裝 / 箱體: ATPAK-3
晶體管極性: P-Channel
通道數量: 1 Channel
Vds-漏源極擊穿電壓: 100 V
Id-連續漏極電流: 28 A
Rds On-漏源導通電阻: 75 mOhms
Vgs - 柵極-源極電壓: - 20 V, + 20 V
Vgs th-柵源極閾值電壓: 3.5 V
Qg-柵極電荷: 73 nC
最小工作溫度: - 55 C
最大工作溫度: + 150 C
Pd-功率耗散: 70 W
通道模式: Enhancement
封裝: Reel
配置: Single
系列: ATP301
晶體管類型: 1 P-Channel
商標: ON Semiconductor
下降時間: 190 ns
產品類型: MOSFET
上升時間: 130 ns
工廠包裝數量: 3000
子類別: MOSFETs
典型關閉延遲時間: 330 ns
典型接通延遲時間: 32 ns
單位重量: 4 g
CW-232提供:
極低的噴濺
快速潤濕性,甚至可以在銹蝕嚴重的表面進行焊接
殘留物顏色淺
與無鉛和錫鉛合金兼容
與熱風整平(HASL)、浸銀、ENIG和OSP表面兼容
先進的高精度電源轉換、測量和控制系統等解決方案,這方面的技術更一直領先全球。
全新的 Paramount HP 10013 射頻電源。新產品推出之后,該公司旗艦產品 Paramount RF (射頻) 電源系列將會有更多型號可供選擇。
Advanced Energy 的等離子工藝設備電源系統適用于半導體蝕刻、介電質蝕刻、沉積、濺鍍、離子植入等半導體和等離子薄膜工藝設備.
Paramount HP 10013 沿用這種在市場一直居領導地位等離子工藝電源技術,但性能則有進一步的提升.
制造商: ON Semiconductor
產品種類: MOSFET
技術: Si
安裝風格: SMD/SMT
封裝 / 箱體: ATPAK-3
晶體管極性: P-Channel
通道數量: 1 Channel
Vds-漏源極擊穿電壓: 100 V
Id-連續漏極電流: 28 A
Rds On-漏源導通電阻: 75 mOhms
Vgs - 柵極-源極電壓: - 20 V, + 20 V
Vgs th-柵源極閾值電壓: 3.5 V
Qg-柵極電荷: 73 nC
最小工作溫度: - 55 C
最大工作溫度: + 150 C
Pd-功率耗散: 70 W
通道模式: Enhancement
封裝: Reel
配置: Single
系列: ATP301
晶體管類型: 1 P-Channel
商標: ON Semiconductor
下降時間: 190 ns
產品類型: MOSFET
上升時間: 130 ns
工廠包裝數量: 3000
子類別: MOSFETs
典型關閉延遲時間: 330 ns
典型接通延遲時間: 32 ns
單位重量: 4 g
CW-232提供:
極低的噴濺
快速潤濕性,甚至可以在銹蝕嚴重的表面進行焊接
殘留物顏色淺
與無鉛和錫鉛合金兼容
與熱風整平(HASL)、浸銀、ENIG和OSP表面兼容