用正光刻膠和亮場掩模版轉移以產生島區
發布時間:2015/10/30 22:00:31 訪問次數:1258
剛剛我們介紹了對光有負效應的光刻膠，稱為負膠。同樣還有對光有正效應的光刻膠，AD8603AUJ-REEL7稱為正膠。光可以改變正膠的化學結構從不可溶到可溶。這種變化稱為光致溶解( photosolu-bilization)。圖8.7顯示了用正膠和亮場掩模版在晶圓表面產生島區的情況。
圖8.8顯示了用不同極性的掩模版和不同極性的光刻膠相結合而產生的結果。通常來講，我們是根據控制尺寸和防止缺陷的要求來選擇光刻膠和掩模版極性，從而使電路工作的。這些問題會在本章的工藝部分中討論。 ．
剛剛我們介紹了對光有負效應的光刻膠，稱為負膠。同樣還有對光有正效應的光刻膠，AD8603AUJ-REEL7稱為正膠。光可以改變正膠的化學結構從不可溶到可溶。這種變化稱為光致溶解( photosolu-bilization)。圖8.7顯示了用正膠和亮場掩模版在晶圓表面產生島區的情況。
圖8.8顯示了用不同極性的掩模版和不同極性的光刻膠相結合而產生的結果。通常來講，我們是根據控制尺寸和防止缺陷的要求來選擇光刻膠和掩模版極性，從而使電路工作的。這些問題會在本章的工藝部分中討論。 ．
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