學習完本章后，你應該OTI002153能夠：

   1．列出硅器件中，二氧化硅膜層的3種基本用途。

   2．描述熱氧化機制。

   3．概略了解和諷別反應爐的基本結構組成。

   4．列出在熱氧化反應中的兩種氧化劑。

   5．簡略畫出干氧化反應的系統圖。

   6．畫出一個典型的氧化工藝流程圖。

   7．解釋在二氧化硅膜層經過熱生長形成膜層厚度里的反應時間、壓力及溫度之間的相互關系。

   8．描述快速熱氧化、高壓氧化、陽極氧化的反應原理及用途。

參考文獻

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