投影光刻機的發展（投影對準機和步進光刻機）大大延長了掩模版和放大掩模版的使用壽命，這也NCP305LSQ20T1促進了高質量的掩模版和放大掩模版的發展。在生產線上，掩模版使用r很長一段時間以后，卜面可能會有灰塵和劃痕，從而造成晶圓的良品率降低。掩模版受損的一個原因町能來自掩模版和放大掩模版的清潔過程。這是一個左右為難的尷尬境地，在清洗掩模版和放大掩模版時，會造成掩模版污損，清洗本身變成_『污染、劃痕和破損的來源。

   解決這一問題的一個辦法是掩模版貼膜（見圖10. 20）。掩模版貼膜( pellicle)是一層在框架上拉伸平鋪的無色有機聚合物薄膜。框架是寺為掩模版或放大掩模版設計的。掩模版貼膜是在掩模版制成或清潔后加蓋上的。貼膜加在掩模版卜后，環境中的微粒就會附著在薄膜表面。薄膜與掩模版之間的距離保證r微粒不會在掩模版的焦平面上。實際上，微粒對于曝光光源來說是透明的。

   使用貼膜的另一個好處是由于掩模版表面被薄膜覆蓋，一定程度上防止了掩模版劃痕。第三個好處是一旦覆蓋上貼膜，掩模版和放大掩模版可以省去一些例行的清洗。在一些應用中，掩模版貼膜還被加上抗反射涂層，它有助于小幾何尺寸的圖形，尤其是在有反射的晶圓表面。這些好處可以促使晶圓良品率5%~30%的增加19。