納米壓印技術和自裝納米層技術工藝都較為復雜,不利于大規模的I業化生產。激光G2PM109N-ALF全息技術是利用全息光柵取代光刻技術中的掩膜,根據三個全息光柵的一級衍射光相互干涉,在光刻膠上表面形成相應的周期性圖形形成二維光子晶體,其光學系統示意圖如圖5-40所示。具體工藝為:首先在藍寶石襯底表面用甩膠機涂覆一層光刻膠,采用圖5-40所示的全息光學系統在光刻膠上曝光,制作光子晶體圖形。全息光學元件由三個兩兩夾角為1⒛°具有相同周期的光柵組成,其衍射光相互干涉形成二維六角圖形。通過控制全息光柵上的周期可以獲得所需晶格常數的二維六角晶格圖形。利用激光全息技術可以非常方便地在藍寶石襯底表面制備不同周期的二維圖形,且全息光柵的面積決定了一次曝光所制作的二維結構圖形的面積,十分有利于實現工業化的低成本、大批量制作。