對于較大直徑晶圓，水平式BA05ST-V5反應爐是氧化設備的選擇”。

   對于更大直徑的水平式反應爐來講，也會有相應的工藝問題。其中一個是如何保證氣流是層流狀態。層流狀態(laminar gas flow)是均勻的、無氣體分離的、不產生不均勻反應的湍流。

   這些考慮導致了垂直式反應爐( VTF)的開發，它選擇更高的生產量、更大直徑工藝的配置㈦，在這種配置里，爐管被設計成垂直狀態，從底部或頂部裝載晶圓，但爐管材料和加熱系統與水平式反應爐一樣。

   在垂直式反應爐中，更均勻的（層流）氣流使得工藝均勻度得到加強。在水平式反應爐咀，蓖力會使混合的氣體產生分離傾向。在垂直式反應爐中，氣體平行運動，使重力造成氣體分離的問題影響減到最小，舟的旋轉使湍流產生的可能性減到最小。垂直式反應爐產生的工藝漂移量僅為水平式反應爐生產的60%15．

   伴隨著水平式反應爐中石英舟容易產生的刮擦爐管內壁而產生顆粒的問題，在垂直式反應爐中被徹底解決了，并且潔凈系統范圍中需要的裝卸區面積更小16。

   一個最具吸引力的方面是垂直式反應爐的占地面積很小。該系繞小于傳統的4層系統。垂直式反應爐提供r在凈化間外面裝載晶圓的可能性，這只需讓裝載入口開在凈化間內。在這種布局里，反應爐在凈化間的占地面積為零。維修可以在維區進行。另一個可能_的布局是把垂直式反應爐按島塊／集群布置。幾臺反應爐圍繞一個機械手分布，這個機械手可以分別給幾臺反應爐裝片。這樣設計更簡單，設備可靠性更高，維修費用更低，正常運行時間更

長。垂直式反應爐可以配置成在晶圓制造中需要的氧化、擴散、退火和淀積的任一種工藝。