前面介紹的各種濾波技術,主要是針對目標信號和背景信號在空間分布、光譜分EZJS1VC392布和時間分布上的差異性,采用相應的濾波手段,確保在盡量不衰減目標信號的前提下,抑制背景信號,從而提高系統的信雜比,增強系統的探測能力。這些濾波技術并沒有改變各種背景輻射的光譜特性,只是通過一定的手段限制了背景信號進入光學系統、到達探測器,因此我們稱這些濾波技術為被動的雜散光抑制技術。

   在紅外光電系統的各種背景中,外部背景(如太陽光、地氣系統雜散光等)的輻射特性是無法進行改變的,但是內部背景輻射的光譜特性和強度是可以通過對儀器各元部件的溫度控制進行改變的。本節中將要討論的溫控技術,就是通過對儀器溫度場的控制這樣一種主動手段來抑制儀器內部的雜散光。

   從前面“紅外輻射背景”一節中知道,對儀器背景輻射特性有影響的因素有兩個,一個是各元部件的熱力學溫度,它決定了背景輻射的光譜分布特性;另一個是各元部件的溫度穩定性,它決定了背景輻射的時間分布特性。

   紅外光電系統的溫控技術在第3章3.5節“熱控與制冷系統”中做了詳細的討論,這里不再重復。下面簡要介紹一下國內外一些典型的低溫光學系統。表4-4所示為國外某些觀測用低溫光學儀器的部分特性。