橢偏儀是一種可反映薄膜特性的光學儀器,它用一個偏光儀,產生線性的偏光,以一個OCP8020大的入射角照射到樣品卜,而后,收集反射光并分析Ⅱ,如圖9,28所示。

   由于樣品的厚度和折射率對偏振的影響,分析儀就測量這種偏振的變化。在橢偏儀上,線性偏光被反射成橢圓偏光,由此而得名。橢圓偏光有兩個成分P(垂直偏振)和S(水平偏振),并有各自的振幅RP、Rs和相位差△,分析儀測量這些矢量組分比,為F把Ψ和△轉化成樣品的光學常數,需要建立一個膜層樣本,這個膜層樣本包含光學常數(折射率或介電函數張量)、每層厚度、膜的正確堆疊順序。使用重復步驟(最小工乘最小化).改變厚度參數,用菲涅兒公式得到Ψ和△,如果Ψ和△計算值能與實驗數據相符,那么它可提供樣品的光學參數和厚度。

   其他度量

   Quantox或汞探針用來測定靜電電荷,這些電荷常在濕法清洗制程時產牛在非導電層上。二次離子質譜儀(SMIS)用來量測摻質的化學濃度,AUGER用來測量晶片表面的有機物,FTIR和折射率被用來測量低(超低)介電常數的改變,接觸角廣泛用來測定晶片表面特性變化。