透射衰減的相移掩膜版的相移層一般由硅化鉬(MoSi)制成。一般來講,對于6%左右的透射率有著6%±0.5%左右的控制精度要求。對相移精度有著180°±5°的要求。 JA3515-OS-A04隨著工藝技術節點的穩步提高,對于掩膜版的精度會越來越高。下面我們來討論以下透射衰減相移掩膜版能夠為密集線條帶來多少好處:

   顯示了一組密集線條在投射衰減掩膜版上的情況。掩膜版上線寬為〃,空兩束光成像相比三束光成像具有更大的焦深,對于孤立的圖形,由于進人光瞳的衍射級非常多,換句話說,其衍射譜是連續的,其焦深比密集圖形要小。那么,如何提高孤立圖形的焦深呢?在20世紀90年代末,Fung Chcn等人提出F使用亞衍射散射條(sub_resolutionassist features,SRAF)的方法來提高孤立圖形的焦深ηΙ2,圖7.96描述了常見的亞衍射散射條的效果。其原理是在孤立線條在光瞳L的連續衍射角分布L1加上密集圖形的衍射級,將兩束光成像焦深較大的效應對原先孤立線條的△藝窗口進行夾持,改善孤立線條的對焦深度。其實,我們可以將此情況看成是兩個圖形的效果的疊加。所以,加上亞衍射散射條后,焦深得到顯著提高。不過,由于衍射光更加集中到密集的0級、1級或者-1級,原先孤立線條的密集衍射級數被淡化,空間像對比度會有所減小(也就是射級數由于受到密集散射條對0、±1級的傾斜,其他級數受到削弱,等效的衍射變小了),也就是能量寬裕度會有所減小。

   顯示了加上亞衍射散射條后,對焦深度顯著提高了(大約從60nm到100nm),但是曝光能量寬裕度也減小了(2OOnm空問周期以上大約從20%下降到16%)。而且孤立線條的掩膜版誤差囚子也大約從1.0升到1,5。所以,亞衍射散射條的應用能夠大幅提高對焦深度,但是也要放棄一點對比度或者能量寬裕度。綜上所述,發揮亞衍射散射條的作用,也需要配合離軸照明(如環形照明)一起使用。