PD20W和PD65W快充電源提升單位體積的效率
發布時間:2020/11/10 12:44:56 訪問次數:2505
在IC領域,精確定位一個中心點或到某一邏輯門的特定距離可能不像在MEMS設計中那么重要。出于機械或慣性的目的,MEMS設計者可能需要把一個電阻精確地放置在某個曲梁單元(curved beam element)的中心。
IC工具可能無法按參數化方法構造復雜的曲線或對象,從而迫使設計師輸入詳細的x、y坐標以繪制出相同器件的近似版本。
低成本的IC工具通常不提供算法到版圖生成(Algorithm-to-layout generaTIon)功能,所以設計師可能要使用Matlab或Excel這類的程序來創建x、y坐標點,然后再進入CAD工具。因此,這些對象是“靜態”的,并且不能被無縫編輯。
不同于成熟的IC制造領域,MEMS設計師從非常早的階段起就必須考慮工藝以及器件的機械物理學問題。
UE Electronic推出了黑科技PD20W和PD65W快充電源。UE Electronic推出的迷你PD20W快充電源,采用優質防火材料,設計成方形外觀,黑白兩色可選,簡約時尚。體積僅有26.5立方分米,支持QC2.0、QC3.0和PD3.0協議。輸出參數為5V/3A,9V/2.22A,不僅可應用于Iphone12,MATE 40,也可與其他常用移動設備兼容。通過ETL、FCC、CE、 CCC、ROHS的檢測標準,輸出插腳設計包含美規、歐規以及中規。
為了提升單位體積電源的效率, UE Electronic 加大了氮化鎵技術的研發投入,PD65W即為氮化鎵電源。對比同功率之傳統電源,它的體積縮小了約60%。搭配有固定式美規/中規插頭,及可轉換式澳規、英規、歐規插頭,可滿足商旅客戶的日常需求。本款65W電源,設計有兩個輸出接口,一個Type-C輸出:5V~9V/3A,12~15V/3A,20V/3.25A,3.3~11V/4A(PPS)和3.3~21V/3A(PPS),另一個是符合PD協議的USB-A輸出口:3.6~6.5V/3A,6.5~9V/2A~12V/1.5A。本款電源同樣符合ETL、FCC、CE、 CCC、ROHS的測試標準。
在MEMS電磁激勵器中,三維(3-D)線圈通常很難制造。MEMS制造工藝的二維(2-D)特性經常限制了機電設計的最佳優化。新穎的分層技術和固定的工藝折衷來實現恰當的磁場。
定制的設計規則檢查(DRC)工具可以用來發現MEMS設計中突然出現的簡單版圖和設計錯誤。低成本IC工具中的DRC功能只能處理45度和直角對象。在一些更好的工具中,DRC已能跨越不同的層檢查任何多邊形對象之間的最小間距。
曲線對象必須分個構建,并被放置在比IC制造工藝更精細的柵格上,以確保機械的“平滑性”。IC版圖工具現在必須能處理具有數千個點的多邊形(它們是因分立的曲線對象而產生的)。
在IC領域,精確定位一個中心點或到某一邏輯門的特定距離可能不像在MEMS設計中那么重要。出于機械或慣性的目的,MEMS設計者可能需要把一個電阻精確地放置在某個曲梁單元(curved beam element)的中心。
IC工具可能無法按參數化方法構造復雜的曲線或對象,從而迫使設計師輸入詳細的x、y坐標以繪制出相同器件的近似版本。
低成本的IC工具通常不提供算法到版圖生成(Algorithm-to-layout generaTIon)功能,所以設計師可能要使用Matlab或Excel這類的程序來創建x、y坐標點,然后再進入CAD工具。因此,這些對象是“靜態”的,并且不能被無縫編輯。
不同于成熟的IC制造領域,MEMS設計師從非常早的階段起就必須考慮工藝以及器件的機械物理學問題。
UE Electronic推出了黑科技PD20W和PD65W快充電源。UE Electronic推出的迷你PD20W快充電源,采用優質防火材料,設計成方形外觀,黑白兩色可選,簡約時尚。體積僅有26.5立方分米,支持QC2.0、QC3.0和PD3.0協議。輸出參數為5V/3A,9V/2.22A,不僅可應用于Iphone12,MATE 40,也可與其他常用移動設備兼容。通過ETL、FCC、CE、 CCC、ROHS的檢測標準,輸出插腳設計包含美規、歐規以及中規。
為了提升單位體積電源的效率, UE Electronic 加大了氮化鎵技術的研發投入,PD65W即為氮化鎵電源。對比同功率之傳統電源,它的體積縮小了約60%。搭配有固定式美規/中規插頭,及可轉換式澳規、英規、歐規插頭,可滿足商旅客戶的日常需求。本款65W電源,設計有兩個輸出接口,一個Type-C輸出:5V~9V/3A,12~15V/3A,20V/3.25A,3.3~11V/4A(PPS)和3.3~21V/3A(PPS),另一個是符合PD協議的USB-A輸出口:3.6~6.5V/3A,6.5~9V/2A~12V/1.5A。本款電源同樣符合ETL、FCC、CE、 CCC、ROHS的測試標準。
在MEMS電磁激勵器中,三維(3-D)線圈通常很難制造。MEMS制造工藝的二維(2-D)特性經常限制了機電設計的最佳優化。新穎的分層技術和固定的工藝折衷來實現恰當的磁場。
定制的設計規則檢查(DRC)工具可以用來發現MEMS設計中突然出現的簡單版圖和設計錯誤。低成本IC工具中的DRC功能只能處理45度和直角對象。在一些更好的工具中,DRC已能跨越不同的層檢查任何多邊形對象之間的最小間距。
曲線對象必須分個構建,并被放置在比IC制造工藝更精細的柵格上,以確保機械的“平滑性”。IC版圖工具現在必須能處理具有數千個點的多邊形(它們是因分立的曲線對象而產生的)。
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