保持氣體從生產商到工藝工作臺過程中不變的純度是對晶圓制造廠的一個挑戰。從生RT9164A-33PG產源開始，氣體要通過管道系統、帶有氣閥與流量表的氣柜，然后接入設備。這整個系統中的任何一部分的泄漏都是災難性的。外部氣體（特別是氧氣）進入工藝氣體參加化學反應，就改變了反應氣體的成分，也改變了期望的化學反應。氣體的污染還可以由系統本身散氣而產生。一個典型的系統設有不銹鋼管道與閥門，還有聚酯材質的部件，如接頭與密封件。對于超級潔凈系統，不銹鋼表面還必須經過電子拋光和（或）用真空雙層保護表面內部的熔接點以減少散氣23。另一種技術就是在表面生長一層氧化鐵膜，以進一步減少散氣。這種技術一般稱為氧氣鈍化( Oxygen Passivation，OP)．，要避免使用聚酯物質。氣體柜的設計減少了可堆積污染的死角。另外潔凈焊接工藝的使用也非常重要，杜絕了焊接氣體被吸入氣體管道．

   水氣的控制也是非常重要的。水蒸氣是一種氣體，與其他污染氣體一樣，也會參與不需要的反應。在晶圓制造廠中加I晶圓時帶有水氣是個特別問題。當有氧氣或水分存在時，硅很容易被氧化。所以控制不需要的水氣對阻止硅表面的氧化是非常重要的。水氣的上限一般是3～5 ppm。

   在氣體中有微粒或金屬離子會產生與化學溶劑污染相同的影響，氣體最終會過濾至0.2¨m級，而金屬離子也要被控制在百萬分之一以下。

   由空氣中分離的氣體以液態形式存儲于廠區里，在這種狀態下，氣體溫度很低，而且這種狀態可冷凍許多雜質并儲存于罐底部。特殊氣體是以高壓瓶的形式采購來的。因為特殊氣體大多是有毒或易燃的，所以一般儲存在廠區外的特制氣柜中。

   石英：晶圓有大量的工藝時間是在石英器中度過的，例如，晶圓固定器、反應爐石英管和傳送器。石英件也是一種非常大的污染源，通常由散氣與微粒的方式產生。即使是高純度石英也含有許多重金屬離子，這些離子可以從石英中散出進入擴散與氧化工藝反應的氣流中，特別是在高溫反應中。這些微粒來自晶圓與晶圓舟（wafer boat）的擦傷和晶圓舟與反應爐石英的摩擦（解決這個問題的方法將在第11章中討論）．