用于顯微鏡的圖像剪切方法是另一個關鍵尺寸測量方法。，它的設備控制允許操作員通過肉眼直接將圖案分成兩個圖像。，開始測量時，IRF520N兩個圖像相互獨立（見圖14. 17），然后移動它們直到完全重合，初始值和終值的差異便是圖形的寬度。像準線裝置一樣，圖像對裝置也必須經標準方法校正。雖然便宜且方便使用，但這種方法限于大于l¨m的寬度。

   下面關于掃描電鏡( SEM)檢測儀的描述同樣用于精確的線寬測量。在納米時代，當便用銅金屬化時，還對r解和控制在孑L洞或表面島區的截面形狀（3D形狀度量衡學）產牛興趣（見圖I4. 18）．，可以用成熟的SEM實現這項任務，SEM直接將電子束掃過上表面、側面和底面以重構精確的圖形。測量直接在晶圓E進行。，一個缺點是光學關鍵尺寸( OCD)8；不能測量孤立的線條。主要目標是讓OCD系統直接集成到工藝設備中，提供實時測量和工藝控制（見圖14. 19）。