三星推出70納米4G NAND和80納米 512M DRAM
發布時間:2007/8/29 0:00:00 訪問次數:546
三星電子(Samsung Electronics)最近表示,已經開發出4Gb的NAND閃存和512Mb的DRAM。NAND閃存采用70納米生產工藝,而DRAM則采用80納米生產工藝。
此外,三星還宣布推出一種名為“聚變內存”的芯片,并希望該產品有助于NAND取代NOR閃存及其它內存組合。聚變內存是一種集成式、單芯片內存,它把高密度內存與邏輯器件集成在一起。第一個聚變內存是512Mb NAND閃存,具有一個邏,它將內存與邏輯器件集成在一塊芯片上。4Gb NAND閃存的內存單元尺寸為0.025平方微米,包括一個30納米厚的鎢金屬門,將減少單元之間的阻抗和噪聲水平。新型鎢金屬門適于采用50納米工藝的設計。
三星的DRAM采用了Recess Channel Array Transistor (RCAT)技術,以及高k氧化物工藝,滿足1.5V以下的低電壓需求。初期量產的是1-Gbit和512-Mbit,數據率為3Gbps。
三星電子(Samsung Electronics)最近表示,已經開發出4Gb的NAND閃存和512Mb的DRAM。NAND閃存采用70納米生產工藝,而DRAM則采用80納米生產工藝。
此外,三星還宣布推出一種名為“聚變內存”的芯片,并希望該產品有助于NAND取代NOR閃存及其它內存組合。聚變內存是一種集成式、單芯片內存,它把高密度內存與邏輯器件集成在一起。第一個聚變內存是512Mb NAND閃存,具有一個邏,它將內存與邏輯器件集成在一塊芯片上。4Gb NAND閃存的內存單元尺寸為0.025平方微米,包括一個30納米厚的鎢金屬門,將減少單元之間的阻抗和噪聲水平。新型鎢金屬門適于采用50納米工藝的設計。
三星的DRAM采用了Recess Channel Array Transistor (RCAT)技術,以及高k氧化物工藝,滿足1.5V以下的低電壓需求。初期量產的是1-Gbit和512-Mbit,數據率為3Gbps。