加熱系統。有冷壁和熱壁兩種類型。常壓反LD2981CU50TR應器都使用冷壁加熱系統,用射頻線圈或紅外輻射加熱器直接加熱基座,基座必須是對加熱器敏感的易感器,而反應器的器壁并未被加熱。低壓反應器可采用對反應器加熱的電阻絲加熱器,基座和反應器壁同時被加熱,是熱壁系統。電阻絲加熱器相對于射頻加熱器價格低廉,使用費用低。加熱系統中還有控溫裝置,應保證基座溫度均勻,控溫精確。當前外延控溫精度多在±0.l℃。

   控制系統。通常采用計算機對設備的各個系統進行協調控制。

   有害物處理裝置。外延用反應劑、摻雜劑及外延生成物氣體多為有毒、易燃、易爆氣體,不可將廢氣直接排放到大氣中,必須經過處理后才能排放,一般使用雨淋處理裝置等進行廢氣處理后再排放。 圖⒊13 氣相外延設各   另外,不同類型的外延設各還有各自特有的系統,如在低壓氣相外延設各中一定還有真空系統,主要包含機械泵、真空計等,用來控制反應器中的真空度。圖313所示是氣相外延設備照片。