在研發X射線曝光設備的同時，X射線光刻膠的研發工作也在進行。， P89V51RD2FA這項工作很復雜，曝光必須在真空中進行，以防止空氣分子對電子束的干擾。電子束通過一組靜電板然后到達掩模版、放大掩模版或晶圓，這組靜電板的作用是調節電子束方向（在x-y方向）。它們的功能和電視機的電子束導向機理類似。為保證電子束精確到達晶片或掩模版，電子束源、相應的機械裝置和要被曝光的襯底都在真空環境中。

   電子束光刻無須使用產生圖形的掩模版或放大掩模版。因為不用掩模版，一些由掩模版或放大掩模版曝光引起的缺陷和錯誤源被去除r。電子束開關和導向由計算機來控制，計算機中存有直接來自計算機輔助設計( CAD)設計階段的晶圓圖形。電子束被偏轉系統導向到

需要曝光的位置上，并將電子束打開，使相應的部位光刻膠曝光．，更大面積的襯底被固定在x-y載臺上，載臺連同襯底在電子束下移動直到全部曝光完畢。這種對準和曝光技術稱為“直接書寫式”( direct writing)。

   光刻膠的曝光圖形分為光柵式和矢量式。光柵式掃描是電子束從晶圓一邊掃描到另一邊然后向下。計算機控制方向和開關電子束。光柵式掃描的缺點是費時，因為電子束要掃描整個晶圓表面。而矢量式掃描曝光，電子束直接移到需要曝光的地方，在每一個需要曝光的地方，曝出一個個小的矩形或長方形，直到需要的圖形曝光完成。