測量速度通常由所選擇的分光儀器(用來分開波長)來決定
發布時間:2019/2/1 10:32:10 訪問次數:818
匯聚束技術:匯聚束技術實現一個錐形光束,人射角最小到40°,最大到7O°。探測器KA317LZTA有多個像素可以同時處理測量角度范圍內的光線。從最大或最小角度反射來的光靠近束斑的邊緣,所得的結果可能無意義,因此可以裁減掉相應的像素。而且匯聚束技術的最小束斑可以到5×10um9可用于測量非常小的圖形。
測量速度通常由所選擇的分光儀器(用來分開波長)來決定,單色儀用來選擇單一的、窄 帶的波長,通過移動單色儀內的光學設備(一般由計算機控制),單色儀可以選擇感興趣的波 長。這種方式波長比較準確,但速度比較慢,因為每次只能測試一個波長。如果單色儀放置 在樣品前,有一個優點是明顯減少了到達樣品的人射光的量(避免了感光材料的改變)。另 外一種測量的方式是同時測量整個光譜范圍,將復合光束的波長展開,利用探測器陣列來檢 測各個不同的波長信號。在需要快速測量時,通常是用這種方式。傅里葉變換分光計也能 同時測量整個光譜,但通常只需一個探測器,而不用陣列,這種方法在紅外光譜范圍應用最 為廣泛。
在集成電路生產過程中,橢偏儀廣泛用于測量介電薄膜的厚度和光學性質,這些薄膜有二氧化硅、氮化硅以及低慮材料等,可測量的薄膜厚度從十幾埃到數千埃不等,既可以測量 單層薄膜,也可以測量多層薄膜的厚度,成為介電薄膜生長I藝監控的重要手段。
在光譜橢偏儀的測量巾使用不同的硬件配置,但每種配置都必須能產生已知偏振態的光束,測量由被測樣品反射后光的偏振態,這要求儀器能夠量化偏振態的變化量ρ。
有些儀器測童ρ是通過旋轉確定初始偏振光狀態的偏振片(稱為起偏器),冉利用第二個固定位置的偏振片(稱為檢偏器)來測得輸出光束的偏振態。另外一些儀器是同定起偏器和檢偏器,而
在中問部分調制偏振光的狀態,如利用聲光晶體等,最終得到輸出光束的偏振態。這些不同配置 的最終結果都是測量作為波長和人射角復函數ρ,如示。在選擇合適的橢偏儀的時候,光譜范圍和測量速度通常也是一個需要考慮的重要因素。可選的光譜范圍從深紫外到紅外,光譜范圍的選擇通常由應用決定,不同的光譜范圍能夠提供關于材料的不同信息,合適的儀器必須和所要測量的光譜范圍匹配。
匯聚束技術:匯聚束技術實現一個錐形光束,人射角最小到40°,最大到7O°。探測器KA317LZTA有多個像素可以同時處理測量角度范圍內的光線。從最大或最小角度反射來的光靠近束斑的邊緣,所得的結果可能無意義,因此可以裁減掉相應的像素。而且匯聚束技術的最小束斑可以到5×10um9可用于測量非常小的圖形。
測量速度通常由所選擇的分光儀器(用來分開波長)來決定,單色儀用來選擇單一的、窄 帶的波長,通過移動單色儀內的光學設備(一般由計算機控制),單色儀可以選擇感興趣的波 長。這種方式波長比較準確,但速度比較慢,因為每次只能測試一個波長。如果單色儀放置 在樣品前,有一個優點是明顯減少了到達樣品的人射光的量(避免了感光材料的改變)。另 外一種測量的方式是同時測量整個光譜范圍,將復合光束的波長展開,利用探測器陣列來檢 測各個不同的波長信號。在需要快速測量時,通常是用這種方式。傅里葉變換分光計也能 同時測量整個光譜,但通常只需一個探測器,而不用陣列,這種方法在紅外光譜范圍應用最 為廣泛。
在集成電路生產過程中,橢偏儀廣泛用于測量介電薄膜的厚度和光學性質,這些薄膜有二氧化硅、氮化硅以及低慮材料等,可測量的薄膜厚度從十幾埃到數千埃不等,既可以測量 單層薄膜,也可以測量多層薄膜的厚度,成為介電薄膜生長I藝監控的重要手段。
在光譜橢偏儀的測量巾使用不同的硬件配置,但每種配置都必須能產生已知偏振態的光束,測量由被測樣品反射后光的偏振態,這要求儀器能夠量化偏振態的變化量ρ。
有些儀器測童ρ是通過旋轉確定初始偏振光狀態的偏振片(稱為起偏器),冉利用第二個固定位置的偏振片(稱為檢偏器)來測得輸出光束的偏振態。另外一些儀器是同定起偏器和檢偏器,而
在中問部分調制偏振光的狀態,如利用聲光晶體等,最終得到輸出光束的偏振態。這些不同配置 的最終結果都是測量作為波長和人射角復函數ρ,如示。在選擇合適的橢偏儀的時候,光譜范圍和測量速度通常也是一個需要考慮的重要因素。可選的光譜范圍從深紫外到紅外,光譜范圍的選擇通常由應用決定,不同的光譜范圍能夠提供關于材料的不同信息,合適的儀器必須和所要測量的光譜范圍匹配。