100V射頻氮化鎵(GaN)/碳化硅(SiC)技術的三維點云數據測量
發布時間:2021/7/29 13:14:40 訪問次數:343
Raspberry Pi主機,以高達120 FPS的速度進行快速3D傳感,從而能夠對快速移動的物體進行高精度、低延遲的三維點云數據測量。在其他特定主機上亦可實現并支持更高的速度(即>600fps)。
DK-ILT001外形小巧輕便[44(寬)×24(深)×16(高)mm,重16g],支持開發緊湊型3D傳感系統。該系統可輕松附著于包括移動物體在內的許多設備上,并由價格不貴的Raspberry Pi設備進行托管。
DK-ILT001隨附一個面向OpenCV、PCL、ROS和Unity,以及C++和Python的軟件API。這簡化了對具有更高水平3D性能的新應用的評估和開發。
制造商: Infineon
產品種類: MOSFET
RoHS: 詳細信息
技術: Si
安裝風格: SMD/SMT
封裝 / 箱體: TO-263-7
晶體管極性: N-Channel
通道數量: 1 Channel
Vds-漏源極擊穿電壓: 40 V
Id-連續漏極電流: 180 A
Rds On-漏源導通電阻: 800 uOhms
Vgs - 柵極-源極電壓: - 20 V, + 20 V
Vgs th-柵源極閾值電壓: 2 V
Qg-柵極電荷: 286 nC
最小工作溫度: - 55 C
最大工作溫度: + 175 C
Pd-功率耗散: 300 W
通道模式: Enhancement
資格: AEC-Q101
封裝: Cut Tape
封裝: Reel
配置: Single
高度: 4.4 mm
長度: 10 mm
系列: XPB180N04
晶體管類型: 1 N-Channel
寬度: 9.25 mm
商標: Infineon Technologies
下降時間: 58 ns
產品類型: MOSFET
上升時間: 24 ns
工廠包裝數量: 1000
子類別: MOSFETs
典型關閉延遲時間: 67 ns
典型接通延遲時間: 53 ns
零件號別名: IPB180N04S4-00 SP000646176
單位重量: 1.600 g
100V射頻氮化鎵(GaN)/碳化硅(SiC)技術,此技術適用的應用領域非常廣泛,包括雷達、航空電子、電子戰、工業、科研和醫療系統。
在100V工作時,此項技術通過單個氮化鎵晶體管即可實現3.6千瓦(kW)的輸出功率,打破了射頻功率的性能屏障。與更常見的50V/65V氮化鎵技術相比,Integra的100V氮化鎵技術使設計師能夠大幅提高系統的功率水平和功能,同時還能采用更低功率的組合電路來簡化系統架構。
客戶最終可以受益于更小的系統占用空間和更低的系統成本。
(素材來源:eccn和ttic.如涉版權請聯系刪除。特別感謝)
Raspberry Pi主機,以高達120 FPS的速度進行快速3D傳感,從而能夠對快速移動的物體進行高精度、低延遲的三維點云數據測量。在其他特定主機上亦可實現并支持更高的速度(即>600fps)。
DK-ILT001外形小巧輕便[44(寬)×24(深)×16(高)mm,重16g],支持開發緊湊型3D傳感系統。該系統可輕松附著于包括移動物體在內的許多設備上,并由價格不貴的Raspberry Pi設備進行托管。
DK-ILT001隨附一個面向OpenCV、PCL、ROS和Unity,以及C++和Python的軟件API。這簡化了對具有更高水平3D性能的新應用的評估和開發。
制造商: Infineon
產品種類: MOSFET
RoHS: 詳細信息
技術: Si
安裝風格: SMD/SMT
封裝 / 箱體: TO-263-7
晶體管極性: N-Channel
通道數量: 1 Channel
Vds-漏源極擊穿電壓: 40 V
Id-連續漏極電流: 180 A
Rds On-漏源導通電阻: 800 uOhms
Vgs - 柵極-源極電壓: - 20 V, + 20 V
Vgs th-柵源極閾值電壓: 2 V
Qg-柵極電荷: 286 nC
最小工作溫度: - 55 C
最大工作溫度: + 175 C
Pd-功率耗散: 300 W
通道模式: Enhancement
資格: AEC-Q101
封裝: Cut Tape
封裝: Reel
配置: Single
高度: 4.4 mm
長度: 10 mm
系列: XPB180N04
晶體管類型: 1 N-Channel
寬度: 9.25 mm
商標: Infineon Technologies
下降時間: 58 ns
產品類型: MOSFET
上升時間: 24 ns
工廠包裝數量: 1000
子類別: MOSFETs
典型關閉延遲時間: 67 ns
典型接通延遲時間: 53 ns
零件號別名: IPB180N04S4-00 SP000646176
單位重量: 1.600 g
100V射頻氮化鎵(GaN)/碳化硅(SiC)技術,此技術適用的應用領域非常廣泛,包括雷達、航空電子、電子戰、工業、科研和醫療系統。
在100V工作時,此項技術通過單個氮化鎵晶體管即可實現3.6千瓦(kW)的輸出功率,打破了射頻功率的性能屏障。與更常見的50V/65V氮化鎵技術相比,Integra的100V氮化鎵技術使設計師能夠大幅提高系統的功率水平和功能,同時還能采用更低功率的組合電路來簡化系統架構。
客戶最終可以受益于更小的系統占用空間和更低的系統成本。
(素材來源:eccn和ttic.如涉版權請聯系刪除。特別感謝)