大容量嵌入式RAM和低功耗CoreMark®算法低至107uA/MHz
發布時間:2021/11/6 13:15:16 訪問次數:499
CMOS傳感器約為100萬像素,各設備制造商正在進行價格競爭,利潤率受到侵蝕。
Topaz這一新品屬于升級版,由于其更高的分辨率和獨特的寬幅,可以實現更長或更寬的掃描范圍。這對需要較大面積/視場(Field of View)的零售和物流掃描領域非常實用。相比于現有的解決方案,最終用戶受益于速度更快的傳送帶和更大的吞吐量。出色的性價比實現大批量采用。憑借微小的占地面積,它們得以成為驅動全球最小的OEM掃描引擎和最薄的移動平臺的理想選擇。
制造商:Microchip產品種類:8位微控制器 -MCURoHS: 系列:安裝風格:SMD/SMT封裝 / 箱體:SSOP-28核心:程序存儲器大小:14 kB數據總線寬度:8 bitADC分辨率:10 bit最大時鐘頻率:20 MHz輸入/輸出端數量:25 I/O數據 RAM 大小:512 B工作電源電壓:1.8 V to 3.6 V最小工作溫度:- 40 C最大工作溫度:+ 85 C封裝:Reel封裝:Cut Tape封裝:MouseReel商標:Microchip Technology數據 Ram 類型:SRAM高度:1.75 mm接口類型:I2C, SPI, USART長度:10.2 mm濕度敏感性:YesADC通道數量:17 Channel計時器/計數器數量:3 Timer處理器系列:PIC16產品:MCU產品類型:8-bit Microcontrollers - MCU程序存儲器類型:Flash2100子類別:Microcontrollers - MCU電源電壓-最大:3.6 V電源電壓-最小:2.5 V商標名:寬度:5.3 mm單位重量:710 mg
RA6M5 采用高效的 40nm 工藝,可以滿足物聯網應用的需求如以太網,面向未來應用的安全功能,大容量嵌入式 RAM 和低功耗CoreMark® 算法,低至 107uA/MHz.
主要用在有線以太網應用,需要增強安全功能的產品如火災探測,防盜檢測和面板控制,表計類產品如電力和自動抄表,以及工業應用如機器人,開門器,縫紉機,自動售貨機和UPS,HVAC和一般用途.
使用的半導體工藝節點對暗信號進行了充分優化,在25°C環境下通常只有3.5e-,在60°C只達到65e-。其次,垂直和水平的FPN通過片上處理得以減少,即使在高溫下也能提供可利用的圖像。
(素材來源:ttic和eccn.如涉版權請聯系刪除。特別感謝)
CMOS傳感器約為100萬像素,各設備制造商正在進行價格競爭,利潤率受到侵蝕。
Topaz這一新品屬于升級版,由于其更高的分辨率和獨特的寬幅,可以實現更長或更寬的掃描范圍。這對需要較大面積/視場(Field of View)的零售和物流掃描領域非常實用。相比于現有的解決方案,最終用戶受益于速度更快的傳送帶和更大的吞吐量。出色的性價比實現大批量采用。憑借微小的占地面積,它們得以成為驅動全球最小的OEM掃描引擎和最薄的移動平臺的理想選擇。
制造商:Microchip產品種類:8位微控制器 -MCURoHS: 系列:安裝風格:SMD/SMT封裝 / 箱體:SSOP-28核心:程序存儲器大小:14 kB數據總線寬度:8 bitADC分辨率:10 bit最大時鐘頻率:20 MHz輸入/輸出端數量:25 I/O數據 RAM 大小:512 B工作電源電壓:1.8 V to 3.6 V最小工作溫度:- 40 C最大工作溫度:+ 85 C封裝:Reel封裝:Cut Tape封裝:MouseReel商標:Microchip Technology數據 Ram 類型:SRAM高度:1.75 mm接口類型:I2C, SPI, USART長度:10.2 mm濕度敏感性:YesADC通道數量:17 Channel計時器/計數器數量:3 Timer處理器系列:PIC16產品:MCU產品類型:8-bit Microcontrollers - MCU程序存儲器類型:Flash2100子類別:Microcontrollers - MCU電源電壓-最大:3.6 V電源電壓-最小:2.5 V商標名:寬度:5.3 mm單位重量:710 mg
RA6M5 采用高效的 40nm 工藝,可以滿足物聯網應用的需求如以太網,面向未來應用的安全功能,大容量嵌入式 RAM 和低功耗CoreMark® 算法,低至 107uA/MHz.
主要用在有線以太網應用,需要增強安全功能的產品如火災探測,防盜檢測和面板控制,表計類產品如電力和自動抄表,以及工業應用如機器人,開門器,縫紉機,自動售貨機和UPS,HVAC和一般用途.
使用的半導體工藝節點對暗信號進行了充分優化,在25°C環境下通常只有3.5e-,在60°C只達到65e-。其次,垂直和水平的FPN通過片上處理得以減少,即使在高溫下也能提供可利用的圖像。
(素材來源:ttic和eccn.如涉版權請聯系刪除。特別感謝)