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化學清洗材料的質量控制要求

發布時間:2012/4/28 19:31:21 訪問次數:771

    電子器件生產中清洗的化FQPF13N50C學試劑有兩大類:無機清洗劑和有機清洗劑。無機清洗劑主要是硫酸、硝酸、鹽酸、氫氟酸、雙氧水、氨水。有機清洗劑主要是甲苯、乙醇和丙酮。化學清洗劑主要控制其不溶物含量、重金屬含量和鉀、鈉等有害雜質含量。目前電子器件生產研制單位一般不具備化學試劑中微量雜質的檢測手段,但要按控制指標要求定點購買,并委托第三方定期進行有關的質量檢測。
    化學試劑中雜質的控制方法主要有:
    ①采用干法工藝取代濕法工藝。
    ②超凈高純試劑的儲存、運輸容器應滿足具有對化學品的惰性和不滲透性;與多數酸、堿和溶劑不反應,不滲入聚合物中的基本要求。目前廣泛使用的材料主要有高密度聚乙烯( HDPE)、四氟乙烯、全氟烷基乙烯、基醚共聚物(PFA亦稱可溶性四氟乙烯)和聚四氟乙烯(PTFE)。
    ③在亞微米、深亞微米工藝生產線中,可用現場顆粒監控體系監控電子級水,工藝化學品管線供應系統和清洗槽、蝕刻槽。清洗、蝕刻槽體系包括溶液再循環過濾系統和顆粒檢測。顆粒在線檢測傳感器(通常使用固體激光二極管)可檢測出尺
寸為0.08 pLm的顆粒。應用數據處理系繞,可連續監控顆粒變化和污染的出現,改進產品工藝可靠性控制,提高產品的成品率和可靠性。
    電子器件生產中清洗的化FQPF13N50C學試劑有兩大類:無機清洗劑和有機清洗劑。無機清洗劑主要是硫酸、硝酸、鹽酸、氫氟酸、雙氧水、氨水。有機清洗劑主要是甲苯、乙醇和丙酮。化學清洗劑主要控制其不溶物含量、重金屬含量和鉀、鈉等有害雜質含量。目前電子器件生產研制單位一般不具備化學試劑中微量雜質的檢測手段,但要按控制指標要求定點購買,并委托第三方定期進行有關的質量檢測。
    化學試劑中雜質的控制方法主要有:
    ①采用干法工藝取代濕法工藝。
    ②超凈高純試劑的儲存、運輸容器應滿足具有對化學品的惰性和不滲透性;與多數酸、堿和溶劑不反應,不滲入聚合物中的基本要求。目前廣泛使用的材料主要有高密度聚乙烯( HDPE)、四氟乙烯、全氟烷基乙烯、基醚共聚物(PFA亦稱可溶性四氟乙烯)和聚四氟乙烯(PTFE)。
    ③在亞微米、深亞微米工藝生產線中,可用現場顆粒監控體系監控電子級水,工藝化學品管線供應系統和清洗槽、蝕刻槽。清洗、蝕刻槽體系包括溶液再循環過濾系統和顆粒檢測。顆粒在線檢測傳感器(通常使用固體激光二極管)可檢測出尺
寸為0.08 pLm的顆粒。應用數據處理系繞,可連續監控顆粒變化和污染的出現,改進產品工藝可靠性控制,提高產品的成品率和可靠性。

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