bychip可替代_2SK3484-Z-E1-AZ導讀
這個器件有兩個電極,一個是金屬,另一個是extrinsic silicon(外在硅),他們之間由一薄層二氧化硅分隔開。首先考察一個更簡單的器件--MOS電容--能更好的理解MOS管。
在多數情況下,這個兩個區是一樣的,即使兩端對調也不會影響器件的性能。MOS管的source和drain是可以對調的,他們都是在P型backgate中形成的N型區。這樣的器件被認為是對稱的。
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。對于N溝道增強型的MOS管,當Vgs >Vgs(th)時,MOS就會開始導通,如果在 D 極和 S 極之間加上一定的電壓,就會有電流Id產生。
(相對而言,其實MOS管發展到現在,普通的應用 PMOS 和 NMOS 都有大量可方便選擇的型號)。 PMOS的閾值電壓教NMOS高,因此需要更高的驅動電壓,充放電時間長,開關速度更低。所以導致現在的格局:NMOS價格便宜,廠商多,型號多。我們通過原理分析可以得知,NMOS 是電子的移動,PMOS那就是空穴的移動,空穴的遷移率比電子低,尺寸與電壓相等的條件下,PMOS的跨導小于 NMOS,形成空穴溝道比電子溝道更難。 PMOS的導通電阻大,發熱大,相對NMOS來說不易通過大電流。PMOS價格貴,廠商少,型號少。
VGS>VGS(th) ,且VDS < VGS - VGS(th),MOS管進入可變電阻區: 可變電阻區在輸出特性的最左邊,Id隨著Vds的增加而上升,兩者基本上是線性關系,所以可以看作是一個線性電阻,當VGS不同電阻的阻值就會不同,所以在該區MOS管相當就是一個由VGS控制的可變電阻。
在P型襯底和兩個N型半導體 之間加一層 二氧化硅(SiO?)絕緣膜,然后通過多晶硅引出引腳組成柵極(G)。
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APM2301CAC-TRL
這個值要盡可能的小,因為一旦阻值偏大,就會使得功耗變大。現在的小功率MOS管導通電阻一般在幾十毫歐左右,幾毫歐的也有。RDS(on)(漏源電阻) 導通時漏源間的最大阻抗,它決定了MOSFET導通時的消耗功率。 MOS管 導通后都有導通電阻存在,這樣電流就會在這個電阻上消耗能量,這部分消耗的能量叫做導通損耗。選擇導通電阻小的MOS管會減小導通損耗。
CSD17579Q3A、DMC2038LVT-7-F、DMG1012T、DMN3024LSD-13、DMP3020LSS-13、DMP3099L-7、DTU40P06、FDC5661N、FDC6306P、FDG6321C。
AO4616、AO4724、AO4828、AO6601、AO6800、AO6800、AO7800、AOD240、AOD240、AOD403。
AO4407、AO4407A、AO4409、AO4421、AO4430、AO4435、AO4485、AO4485、AO4606、AO4611。
2SK3484-Z-E1-AZ" src="http://member.51dzw.com/CompanyFile/202107/20210710113372847284.jpg" />
假設source 和backgate都接地,drain接正電壓。只要GATE對BACKGATE的電壓仍舊小于閾值電壓,就不會形成channel。
最普通的FET用一薄層二氧化硅來作為GATE極下的絕緣體。
文章來源:www.bychip.cn