光刻工藝：從表面準備到曝光
發布時間:2015/10/30 22:31:19 訪問次數:484
接下來的內容將介紹基本的光刻Ij藝十步法。其中包括每一步的目的、ADC10154CIWM技術考慮和挑戰、選項和I：藝控制方法等，對于先進的設計規則光刻工藝使用這些基本的工藝步驟的變化和不同的組合（見第10章）。
貫穿全文，我們會用不同的類推方法來幫助讀者理解復雜的工藝過程。對于光刻工藝的一個很好的類比就是涂漆工藝。即使是一個業余的油漆匠也會很快學會，要想最終得到一個平滑而且結合很好的膜，表面必須干燥而且干凈。這個道理在光刻工藝過程中同樣也適用。為確保光刻膠能和晶圓表面很好地黏結，必須進行表面準備。這一步驟是由3個階段完成的：微粒清除、脫水烘焙和晶圓涂底膠。
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貫穿全文，我們會用不同的類推方法來幫助讀者理解復雜的工藝過程。對于光刻工藝的一個很好的類比就是涂漆工藝。即使是一個業余的油漆匠也會很快學會，要想最終得到一個平滑而且結合很好的膜，表面必須干燥而且干凈。這個道理在光刻工藝過程中同樣也適用。為確保光刻膠能和晶圓表面很好地黏結，必須進行表面準備。這一步驟是由3個階段完成的：微粒清除、脫水烘焙和晶圓涂底膠。
相關技術資料- 10-30光刻工藝：從表面準備到曝光
公網安備44030402000607
