拋光墊是拋光機上重要部件,概括起MLV-L02D來拋光墊的作用有4點:

   ①把拋光液有效均勻的輸送到不同區域;

   ②將拋光后的反應物、碎屑等順利排出;

   ③維持拋光墊表面的拋光液薄膜,以便化學反應充分進行;

   ④保持拋光過程的平穩、表面不變形,以便獲得較好的表面形貌。

   衡量拋光墊的參數有硬度、壓縮比、涵養量、粗糙度、密度、厚度等。拋光墊使用一段時間后往往需要用金剛石對拋光墊進行修整,可以有效的去除表面的釉化層,使得拋光墊表面恢復均勻微孔,達到良好的拋光效果[1:]

   目前成熟運用的拋光磨料有si02微米、納米顆粒(硅溶膠),它具有比重輕,容易懸浮,用量小,價格較為便宜,可以簡單地做到納米級,可以達到很低的粗糙度(R夕(2A)等優勢。在堿性加壓條件下,藍寶石表面產生水化層,水化層可與Si02發生反應,其反應方程式如式(⒋18)和式(⒋19)所示,反應后的生產物更容易被機械去除[l叨。S⒑2磨料具有諸多優勢,使得其在市場上獲得廣泛應用,但是它拋光的速率太慢,往往達到較低的粗糙度時需要數小時的拋光作業。保證拋光效果的前提下要提高拋光速率,通過設備、拋光墊、拋光工藝等均已經非常困難,最理想的是開發新的拋光液。Abo3磨料拋光液較為合適,它具有與藍寶石相同的硬度,可以循環使用,對溫度沒有硅溶膠敏感等優勢。AbO3磨料拋光液的開發需要解決分散穩定性好、粒度小,純度高的剛玉粉體,需要解決表面劃傷的問題。