真空蒸鍍(Vactlum Evapora0on)又稱為真空蒸發,是把裝有襯底的真空室抽吸至高真空度,然后BCM7035RKPB1加熱源材料使其蒸發或者升華,形成源蒸氣流人射到襯底表面,最終在襯底凝結形成固態薄膜的一種工藝技術。

    工藝原理

   以真空蒸鍍方法制各薄膜,可將其分解為3個基本過程:蒸發過程、氣相輸運過程、成膜過程。通過分析這3個基本過程來看蒸鍍薄膜的工藝原理。蒸發過程是蒸發源原子(或分子)從固體或液體表面逸出成為蒸氣原子的過程。固態物質受熱(或其他能量)激發,溫度升高至熔點,熔化,再升至沸點,蒸發;或者由固態直接升華為氣態。對大多數金屬及化合物源而言,需要加熱至熔化之后才能有效地蒸發。只有少數源材料,如Mg、Cd、Zn等是直接升華的。

   在任何溫度條件下,固態(或液態)物質周圍環境中都存在著該物質的蒸氣,平衡時的蒸氣壓強被稱為該物質的平衡蒸氣壓,又稱飽和蒸氣壓。只有當周圍環境中該物質的蒸氣分壓低于它的平衡蒸氣壓時,才可能有該物質的凈蒸發。任何物質的平衡蒸氣壓都是溫度的函數,隨著溫度升高而迅速增大。