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氣相輸運過程

發布時間:2017/5/21 17:52:10 訪問次數:2359

   氣相輸運過程是源蒸氣從源到襯底表面之間的質量輸運過程。蒸氣原子在飛行過程中可能與真空室內的殘余氣體分子發生碰撞,兩次碰撞之OCP2156TWAD間飛行的平均距離稱為蒸氣原子的平均自由程(λ)。

   基于氣體動力學原理,可得頁與真空室壓力(真空度)P的關系式為 ,d為原子半徑。頁與P成反比。

   真空室的真空度越高,蒸氣原子的平均自由程就越大。在圖89中源到襯底表面的距離為L,為避免從源到襯底表面蒸氣原子因碰撞被散射或能量降低,應有頁)L。因此,蒸鍍時必須保持室內真空度足夠高,使得從源逸出的原子以直線形式到達襯底表面。假設到達襯底的所有蒸氣原子都吸附并保留在襯底表面,且到達各襯底表面的原子流通量也相等,那么到達襯底表面的這些原子占從源蒸發的全部原子的比例應是一常數(設為Κ)。由圖810所示的源和接受面的幾何一空間關系進行推導,為源表面和襯底表面的方向角,當蒸發源表面和襯底接受面在同一半徑為r球體的球面上時.

          

   氣相輸運過程是源蒸氣從源到襯底表面之間的質量輸運過程。蒸氣原子在飛行過程中可能與真空室內的殘余氣體分子發生碰撞,兩次碰撞之OCP2156TWAD間飛行的平均距離稱為蒸氣原子的平均自由程(λ)。

   基于氣體動力學原理,可得頁與真空室壓力(真空度)P的關系式為 ,d為原子半徑。頁與P成反比。

   真空室的真空度越高,蒸氣原子的平均自由程就越大。在圖89中源到襯底表面的距離為L,為避免從源到襯底表面蒸氣原子因碰撞被散射或能量降低,應有頁)L。因此,蒸鍍時必須保持室內真空度足夠高,使得從源逸出的原子以直線形式到達襯底表面。假設到達襯底的所有蒸氣原子都吸附并保留在襯底表面,且到達各襯底表面的原子流通量也相等,那么到達襯底表面的這些原子占從源蒸發的全部原子的比例應是一常數(設為Κ)。由圖810所示的源和接受面的幾何一空間關系進行推導,為源表面和襯底表面的方向角,當蒸發源表面和襯底接受面在同一半徑為r球體的球面上時.

          

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相關技術資料
5-21氣相輸運過程
8-17粘授材料朐特性
相關IC型號
OCP2156TWAD
暫無最新型號

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