表征光刻膠性質的量有下面幾個。

   1 響應波長

   響應波長是能使光刻膠結構發生變化的光(或射線)的波長。為了提高光學光刻的分辨率,光刻S-1200B33-M5T1G膠在向短波方向發展。

   汞燈作為光源時所用膠的響應波長是紫光,400~550nm;氙-汞燈作為光源采用近紫外膠,響應波長在360nm附近;190nm的極紫外光刻膠正在研究之中。電子束光刻膠對電子束有響應。

   2靈敏度

   光刻膠的靈敏度是指單位面積上人射的使光刻膠全部發生反應的最小光能量或最小電荷量(對電子束膠)。靈敏度以毫焦每平方厘米(Ⅱ刂/cnl9)為單位。提供給光刻膠的光能量值通常稱為曝光量。靈敏度越高,需要的光(或射線)能量越少,曝光時間越短。靈敏度太低會影響生產效率,所以通常希望光刻膠有較高的靈敏度。但靈敏度太高會影響分辨率。負膠的靈敏度高于正膠。

   3抗蝕性

   光刻膠膠膜必須保持它的黏附性,并在后續的濕刻和干刻中保護襯底表面。這種性質稱為抗蝕性。一些干法刻蝕工藝要在高溫(如150℃)下完成,這需要光刻膠具有熱穩定性以保持其形狀。抗蝕性越強,光刻膠性能越好。

   4黏滯性

   對于液體光刻膠來說,黏滯性是評價其流動特性的定量指標。黏滯性與時間相關,因為它會在使用中隨著光刻膠中溶劑的揮發而增加。黏滯性非常重要,因為硅片表面具有各種形貌(如臺階和狹縫),在這些地方,它會影響光刻膠的厚度和均勻性。隨著黏滯性的增加,光刻膠流動的趨勢變小,它在硅片上的厚度增加,分辨率下降,但是抗蝕性增強。因此,選擇膠的黏度時應根據需要來確定。

   5黏附性

   光刻膠的黏附性描述了光刻膠黏著于襯底的強度。光刻膠必須黏附于許多不同類型的表面,包括硅、多晶硅、二氧化硅(摻雜的和未摻雜的)、氮化硅和不同的金屬。光刻膠黏附性的不足會導致硅片表面上的圖形變形。光刻膠的黏附性必須保證光刻膠經受住曝光、顯影和后續的工藝(如刻蝕和離子注人)條件。