光波傳播介質折射率和光程長度的變化都將導致相千光相位的變化， T6A39FG從而引起干涉條紋強度的改變。干涉測量中就是利用這一性質改變光載波的特征參量，以形成各種光學信息的。能夠引起光程差發生變化的參量有很多，如幾何距離、位移、角度、速度、溫度引起的熱膨脹等，這些參量都會引起光波傳播距離的改變；介質的成分、密度、環境溫度、氣壓以及介質周圍的電場、磁場等能引起折射率的變化；從物體表面反射光波的波面分布可以確定物體的形狀。因此，光學干涉技術可以用于檢測非光學參量，是一種非常有效的檢測手段。

   相位調制通常是利用不同形式的干涉儀，借助機械的、光學的、電子學的變換器件，將被測量的變化轉換為光路長度三和折射率刀的變化，用于檢測幾何和機械運動參量，分析物質的理化特性。

   同頻相干信號的檢測方法

   在相位調制檢測系統中，被測參量一般通過改變干涉儀中傳輸光的光程而引起對光的相位調制，由干涉儀解調出來的信息是一幅干涉圖樣，它以干涉條紋的變化反映被測參量的信息。干涉條紋由干涉場上光程差相同的場點的軌跡形成。干涉條紋的形狀、間隔、顏色及位置的變化，均與光程的變化有關，因此，根據干涉條紋上述諸因素的變化，可以進行長度、角度、平面度、折射率，氣體或液體含量、光學元件面形、光學系統像差、光學材料內部缺陷等各種與光程有確定關系的幾何量和物理量的測量。因此，如何檢測干涉條紋就變得十分有意義。干涉條紋檢測實際是檢測干涉條紋的光強度分布或其隨時間的變化。基本的條紋檢測法包括條紋光強檢測法、條紋比較法和條紋跟蹤法。