淀積依賴于待摻雜物質蒸氣原子在爐管中的濃度。蒸氣產生于爐管設備上的雜質源箱內的雜質源，AD6630AR由攜帶氣體帶入爐管中。雜質源為液態、固態或氣態。多種元素有超過一種形態的雜質源可以使用（見圖11. 13）”。通用的另一種固態源是平面源“晶圓”。它們是與晶圓一樣大小的一個塊。硼塊是含硼和氮的化合物( BN)，也有町用做砷和磷摻雜的雜質塊。

   雜質塊堆放于淀積舟上，每兩片器件晶圓放一片雜質塊。這種排列方式被稱為近鄰固態源( solid neighbor source)。在爐管中，雜質從雜質塊中擴散出，通過很短的距離到達并擴散到晶圓表面內部。

   第三種固態源是直接旋轉涂敷在晶圓表面的。源是粉末狀氧化物（同遠程源相同）與溶劑的混合物。留在晶圓表面的就是一層摻雜的氧化物。淀積爐管的熱使雜質從氧化物中擴散到晶圓內部。