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晶圓表面金屬離子的去除曾是一個問題

發布時間:2016/6/17 20:51:18 訪問次數:788

   晶圓表面金屬離子的去除曾是一個問題。這些離子存在于化學品中,并且不溶于大多數的清洗和刻蝕液中。H12CA4850通過加入一種整合劑,如乙烯基二胺乙酸,使其與這些離子結合,從而阻止它們再次沉積到晶圓上。

   在最初的清洗配方的基礎上,曾有過多種改進和變化。SC-1稀釋液的比例為1∶⒈50(而不是1△∶5),SC―2的稀釋液的比例為1△∶60(而不是1△∶6)。這些溶液被證明具有與比它們更濃的溶液配方同樣的清洗效果。稀釋液減少了化學品的使用和處理而具有成本優勢。

   RCA濕法清洗取得成功的一個重要原因是超純水和化學品的可用性。新的清洗方法,如現場化學品生成,比以前提供了更高級別的純度,產生了更有效的清洗效應。RCA清洗生成大量的化學蒸氣,為防止化學蒸氣進入凈化間,增加了凈化間排放系統的負載。溶液的另一個問題是它具有隨時間推移改變溶液組分的效應。

   晶圓表面金屬離子的去除曾是一個問題。這些離子存在于化學品中,并且不溶于大多數的清洗和刻蝕液中。H12CA4850通過加入一種整合劑,如乙烯基二胺乙酸,使其與這些離子結合,從而阻止它們再次沉積到晶圓上。

   在最初的清洗配方的基礎上,曾有過多種改進和變化。SC-1稀釋液的比例為1∶⒈50(而不是1△∶5),SC―2的稀釋液的比例為1△∶60(而不是1△∶6)。這些溶液被證明具有與比它們更濃的溶液配方同樣的清洗效果。稀釋液減少了化學品的使用和處理而具有成本優勢。

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H12CA4850
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